お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2010-03-10 15:50
MOSトランジスタの耐ばらつきチャネル分割に関する考察
劉 博越智 敦中武繁寿北九州市大VLD2009-104
抄録 (和) 本研究では、規則バルク構造に基づくMOSアナログレイアウト自動設計方式の確立を目標として、短チャネル長/幅のトランジスタ集合への分割方法を扱う。$90nm$製造プロセスにおけるMOSトランジスタ特性評価回路が搭載したTEG(Test Element Group)を開発し、チャネル長(L)分割、チャネル幅(W)分割、拡散共有・分離など、多様なレイアウト構造を持つMOSトランジスタのDC特性を考察する。
また、これらのレイアウト構造に依存する製造ばらつきにも着目し、レイアウト面積とのトレードオフを考慮した総合評価を行い、製造ばらつきを抑制できるチャネル分割方法のガイドラインを示す。 
(英) Aiming at the layout automation based on the regular bulk structure
in MOS analog circuits, we study how to decompose a MOS transistor into unit-transistors with the short channel width and length. We developed the TEG (Test Element Group) on $90nm$ manufacturing process where various transistors decomposed with respect to channel length/width and diffusion sharing/isolation. Evaluating the DC characteristics of the transistors in the TEG as well as focusing the manufacturing variation, we provide guidelines for the channel decomposition to suppress the manufacturing variation taking the layout area into account.
キーワード (和) MOSアナログレイアウト / 規則バルク構造 / 製造ばらつき / チャネル分割 / / / /  
(英) MOS analog layout / egular bulk structure / manufacturing variation / channel decomposition / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 462, VLD2009-104, pp. 31-36, 2010年3月.
資料番号 VLD2009-104 
発行日 2010-03-03 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2009-104

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2010-03-10 - 2010-03-12 
開催地(和) 沖縄県男女共同参画センター 
開催地(英)  
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2010-03-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MOSトランジスタの耐ばらつきチャネル分割に関する考察 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Variation-Tolerant Decomposition of MOS Transistor 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) MOSアナログレイアウト / MOS analog layout  
キーワード(2)(和/英) 規則バルク構造 / egular bulk structure  
キーワード(3)(和/英) 製造ばらつき / manufacturing variation  
キーワード(4)(和/英) チャネル分割 / channel decomposition  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 劉 博 / Bo Liu / リュウ ハカ
第1著者 所属(和/英) 北九州市立大学 (略称: 北九州市大)
The University of Kitakyushu (略称: Univ. of Kitakyushu)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 越智 敦 / Atsushi Ochi / オチ アツシ
第2著者 所属(和/英) 北九州市立大学 (略称: 北九州市大)
The University of Kitakyushu (略称: Univ. of Kitakyushu)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 中武 繁寿 / Shigetoshi Nakatake / ナカタケ シゲトシ
第3著者 所属(和/英) 北九州市立大学 (略称: 北九州市大)
The University of Kitakyushu (略称: Univ. of Kitakyushu)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2010-03-10 15:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2009-104 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.462 
ページ範囲 pp.31-36 
ページ数
発行日 2010-03-03 (VLD) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会