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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-05-14 10:25 RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 ○中村光宏・以西雅章（静岡大）  ED2010-26 CPM2010-16 SDM2010-26 |
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| 抄録 | （和） | RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している。本研究では、薄膜の生成条件を調査した。変数を蒸着時間、RF電力、スパッタリング圧力、スパッタリング雰囲気とし、Al基板上にターゲット物質であるLiMn2O4を堆積させ、X線回折により生成物質を同定した。薄膜の膜厚は、蒸着物比重から算出した。その結果、膜厚や蒸着速度は、蒸着時間、RF電力に比例し、スパッタリング圧力、スパッタリング雰囲気によって規則的に変化することがわかった。これらのことから、薄膜を最も効率的に生成する条件が得られた。 |
| （英） | The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. This research was designed for investigating the deposition condition of the films. The parameters were sputtering time, RF power, sputtering pressure and sputtering atmosphere. The LiMn2O4 films were deposited on the Al substrates. Afterwards the film properties were evaluated by X-ray diffraction. The film thickness was estimated by the gravimetry method. It was shown that the film thickness and the deposition rate were proportional to the sputtering time and the RF power and that they varied linearly with the sputtering pressure and the sputtering atmosphere. It was seemed that an optimum preparation could be obtained through this study. | |
| キーワード | （和） | LiMn2O4薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / Li二次電池 / / / / / |
| （英） | LiMn2O4 thin film / RF magnetron sputtering / Li secondary batteries / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 31, SDM2010-26, pp. 51-55, 2010年5月. | |
| 資料番号 | SDM2010-26 | |
| 発行日 | 2010-05-06 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2010-26 CPM2010-16 SDM2010-26 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM CPM ED |
| 開催期間 | 2010-05-13 - 2010-05-14 |
| 開催地（和） | 静岡大学（浜松キャンパス） |
| 開催地（英） | Shizuoka University (Hamamatsu Campus) |
| テーマ（和） | 結晶成長、評価及びデバイス（化合物、Si、SiGe、電子・光材料） |
| テーマ（英） | Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials） |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2010-05-SDM-CPM-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation of deposition condition of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | LiMn2O4薄膜 / LiMn2O4 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | Li二次電池 / Li secondary batteries |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中村 光宏 / Mitsuhiro Nakamura / ナカムラ ミツヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-05-14 10:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | ED2010-26, CPM2010-16, SDM2010-26 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.29(ED), no.30(CPM), no.31(SDM) |
| ページ範囲 | pp.51-55 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2010-05-06 (ED, CPM, SDM) |
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