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講演抄録/キーワード
講演名 2010-05-20 13:55
単層プリント基板配線のための効率的な高混雑度領域特定および45度線による混雑度緩和法
篠田享佑東工大)・小平行秀会津大)・高橋篤司阪大VLD2010-9
抄録 (和) 近年,電子機器の高性能化・小型化に伴い,VLSI システムの高密度化が進み,PCB 配線設計において90
度線のみでは全ての接続要求が満たせない入力が増加している.本稿では,エスケープ配線,領域割り当てが完了し
た後の幹配線条件を満たす1 層配線問題に対し,90 度線のみでは接続要求を満たせない原因となっている高混雑度領
域を効率的に特定し,それらの領域において45 度線を用いることで混雑度を緩和することで,より多くの接続要求を
満たす配線手法を提案する. 
(英) In recent VLSI systems, system performance increases while system size reduces. In Printed Circuit
Board (PCB) design, most of routing instances contain congested areas at which routing can not be realized only
by horizontal and vertical segments. In this paper, we propose a method that efficiently detects a congested area of
single layer PCB routing problems which are derived after escape routing and routing area assignment are finished,
and that relaxes routing congestion by locally introducing 45 degree segments so that a feasible routing is efficiently
obtained.
キーワード (和) プリント基板 / 平面配線 / 幹配線 / 一層 / 配線混雑度 / 45 度線 / /  
(英) printed circuit board / plane routing / river routing / single layer / routing congestion / 45 degree line / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 36, VLD2010-9, pp. 79-84, 2010年5月.
資料番号 VLD2010-9 
発行日 2010-05-12 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2010-9

研究会情報
研究会 VLD IPSJ-SLDM  
開催期間 2010-05-19 - 2010-05-20 
開催地(和) 北九州国際会議場 
開催地(英) Kitakyushu International Conference Center 
テーマ(和) システム設計および一般 
テーマ(英) System Design, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2010-05-VLD-SLDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 単層プリント基板配線のための効率的な高混雑度領域特定および45度線による混雑度緩和法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) An Efficient Congested Area Specification And Congestion Relaxation by 45 Degree Line for Single Layer Printed Circuit Board Rouitng 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プリント基板 / printed circuit board  
キーワード(2)(和/英) 平面配線 / plane routing  
キーワード(3)(和/英) 幹配線 / river routing  
キーワード(4)(和/英) 一層 / single layer  
キーワード(5)(和/英) 配線混雑度 / routing congestion  
キーワード(6)(和/英) 45 度線 / 45 degree line  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 篠田 享佑 / Kyosuke Shinoda / シノダ キョウスケ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ
第2著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
The University of Aizu (略称: UoA)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ
第3著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2010-05-20 13:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2010-9 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.36 
ページ範囲 pp.79-84 
ページ数
発行日 2010-05-12 (VLD) 


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