講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-09-29 15:15
SiO2/LiNbO3構造SAWデバイスにおけるSiO2膜物性と周波数温度係数の相関性の検討 ○松田 聡・三浦道雄・松田隆志・上田政則・佐藤良夫(太陽誘電)・橋本研也(千葉大) US2010-53 |
抄録 |
(和) |
SiO2/LiNbO3構造を用いた広帯域温度補償のSAWデバイスにおいて、FT-IR (Fourier-transform Infrared Spectroscopy)を用いたSiO2膜特性の評価結果から、SiO2膜特性(ピーク波数、半値幅)と周波数温度係数(TCF)に相関性があることがわかった。その結果、デバイスにおけるTCF改善指標を見出すことができ、SiO2膜厚0.3λでTCF=0を実現することができた。また、Si-O-Si間の結合角から弾性定数の変化が説明され、TCF改善要因を解明することができた。 |
(英) |
In the temperature compensation SAW device with SiO2/LiNbO3 structure, SiO2 film properties (the peak width at half maximum) and frequency temperature coefficient (TCF) was found to be correlated from the evaluation of SiO2 film properties using FT-IR (Fourier-transform Infrared Spectroscopy). As a result, we could find the index of improving the TCF and achieve TCF = 0 with the SiO2 thickness 0.3λ. We also explained the change of the elastic constants from the Si-O-Si bridging bond angle and understood the way of the improvement of TCF. |
キーワード |
(和) |
SiO2 / LiNbO3 / 温度補償 / SAWデバイス / TCF / FT-IR / 弾性定数 / 結晶性 |
(英) |
SiO2 / LiNbO3 / temperature compensation / SAW / TCF / FT-IR / elastic constant / crystallinity |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 213, US2010-53, pp. 29-32, 2010年9月. |
資料番号 |
US2010-53 |
発行日 |
2010-09-22 (US) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
US2010-53 |
研究会情報 |
研究会 |
US |
開催期間 |
2010-09-29 - 2010-09-30 |
開催地(和) |
東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 |
開催地(英) |
Tohoku Univ. |
テーマ(和) |
一般 |
テーマ(英) |
General |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
US |
会議コード |
2010-09-US |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
SiO2/LiNbO3構造SAWデバイスにおけるSiO2膜物性と周波数温度係数の相関性の検討 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Study of Correlation between SiO2 Film Properties and Temperature Coefficients of Frequency in SAW Devices with SiO2/LiNbO3 Structure |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
SiO2 / SiO2 |
キーワード(2)(和/英) |
LiNbO3 / LiNbO3 |
キーワード(3)(和/英) |
温度補償 / temperature compensation |
キーワード(4)(和/英) |
SAWデバイス / SAW |
キーワード(5)(和/英) |
TCF / TCF |
キーワード(6)(和/英) |
FT-IR / FT-IR |
キーワード(7)(和/英) |
弾性定数 / elastic constant |
キーワード(8)(和/英) |
結晶性 / crystallinity |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松田 聡 / Satoru Matsuda / マツダ サトル |
第1著者 所属(和/英) |
太陽誘電株式会社 (略称: 太陽誘電)
TAIYO YUDEN CO.,LTD. (略称: TAIYO YUDEN CO.,LTD.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三浦 道雄 / Michio Miura / ミウラ ミチオ |
第2著者 所属(和/英) |
太陽誘電株式会社 (略称: 太陽誘電)
TAIYO YUDEN CO.,LTD. (略称: TAIYO YUDEN CO.,LTD.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松田 隆志 / Takashi Matsuda / マツダ タカシ |
第3著者 所属(和/英) |
太陽誘電株式会社 (略称: 太陽誘電)
TAIYO YUDEN CO.,LTD. (略称: TAIYO YUDEN CO.,LTD.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
上田 政則 / Masanori Ueda / ウエダ マサノリ |
第4著者 所属(和/英) |
太陽誘電株式会社 (略称: 太陽誘電)
TAIYO YUDEN CO.,LTD. (略称: TAIYO YUDEN CO.,LTD.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 良夫 / Yoshio Satoh / サトウ ヨシオ |
第5著者 所属(和/英) |
太陽誘電株式会社 (略称: 太陽誘電)
TAIYO YUDEN CO.,LTD. (略称: TAIYO YUDEN CO.,LTD.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
橋本 研也 / Ken-ya Hashimoto / ハシモト ケンヤ |
第6著者 所属(和/英) |
千葉大学大学院 (略称: 千葉大)
Graduate School of Engineering Chiba University (略称: Grad. School of Eng., Chiba Univ.) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 所属(和/英) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 所属(和/英) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 所属(和/英) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2010-09-29 15:15:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
US |
資料番号 |
US2010-53 |
巻番号(vol) |
vol.110 |
号番号(no) |
no.213 |
ページ範囲 |
pp.29-32 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2010-09-22 (US) |