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講演抄録/キーワード
講演名 2010-09-29 14:50
超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英ガラスの仮想温度評価に関する検討
櫛引淳一・○荒川元孝大橋雄二丸山由子近藤貴則吉田哲男東北大US2010-52
抄録 (和) 超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英(SiO2)ガラスの仮想温度TFの評価法を開発した。OH濃度が異なる2種類の市販SiO2ガラスから用意した試料に対して、900-1200℃の間の所望の熱処理温度において熱処理を行った。縦波と横波の音速(Vl, Vs)、漏洩弾性表面波速度(VLSAW)、密度(ρ)の測定を行った。Vlは熱処理温度に対して最も変化が大きかった。TFに対して線形の関係が報告されているρとVlとの間の関係を利用し、音響特性のTF依存性を求めた。OH濃度の違いに起因する仮想温度依存性の違いを捉えた。Vlは、TFに対する分解能が0.3-0.4℃と最も高く、ラマン分光分析法や赤外吸光分析法などの従来法よりも40-150倍高い。VLSAWは約10℃の分解能で試料表面のTFの二次元分布を計測することが可能である。本超音波法は、SiO2ガラスのTF評価法として、極めて有効である。 
(英) We developed an evaluation method of fictive temperatures TF for synthetic silica (SiO2) glasses by the ultrasonic micro-spectroscopy technology. Specimens prepared from two kinds of commercial SiO2 glasses with different OH concentrations were heat-treated at desired annealing temperatures from 900 to 1200°C. Longitudinal and shear velocities (Vl and Vs), leaky surface acoustic wave (LSAW) velocities (VLSAW), and densities (ρ) were measured. Vl varied most significantly among the acoustic properties. TF dependences of acoustic properties were obtained from relationships between Vl and ρ, which was reported that it is in a linear relationship with TF. Different TF dependences were detected for the two types of SiO2 glasses because of different OH concentrations. The resolutions were 0.3-0.4°C, and they were 40-150 times higher than the conventional methods using Raman spectroscopy and infrared spectroscopy. VLSAW measurements can provide two-dimensional TF distributions on the specimen surface with resolutions of about 10°C. This ultrasonic method is extremely useful for TF evaluation for SiO2 glasses.
キーワード (和) 超音波マイクロスペクトロスコピー技術 / 合成石英ガラス / 仮想温度 / 縦波音速 / 横波音速 / 漏洩弾性表面波速度 / 密度 /  
(英) ultrasonic micro-spectroscopy technology / synthetic silica glass / fictive temperature / longitudinal velocity / shear velocity / leaky surface acoustic wave velocity / density /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 213, US2010-52, pp. 23-28, 2010年9月.
資料番号 US2010-52 
発行日 2010-09-22 (US) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード US2010-52

研究会情報
研究会 US  
開催期間 2010-09-29 - 2010-09-30 
開催地(和) 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 
開催地(英) Tohoku Univ. 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英) General 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 US 
会議コード 2010-09-US 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英ガラスの仮想温度評価に関する検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of Fictive Temperature of Synthetic Silica Glasses by the Ultrasonic Microspectroscopy Technology 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 超音波マイクロスペクトロスコピー技術 / ultrasonic micro-spectroscopy technology  
キーワード(2)(和/英) 合成石英ガラス / synthetic silica glass  
キーワード(3)(和/英) 仮想温度 / fictive temperature  
キーワード(4)(和/英) 縦波音速 / longitudinal velocity  
キーワード(5)(和/英) 横波音速 / shear velocity  
キーワード(6)(和/英) 漏洩弾性表面波速度 / leaky surface acoustic wave velocity  
キーワード(7)(和/英) 密度 / density  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 櫛引 淳一 / Jun-ichi Kushibiki / クシビキ ジュンイチ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒川 元孝 / Mototaka Arakawa / アラカワ モトタカ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大橋 雄二 / Yuji Ohashi / オオハシ ユウジ
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 丸山 由子 / Yuko Maruyama / マルヤマ ユウコ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 近藤 貴則 / Takanori Kondo / コンドウ タカノリ
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 哲男 / Tetsuo Yoshida /
第6著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者 第2著者 
発表日時 2010-09-29 14:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 US 
資料番号 US2010-52 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.213 
ページ範囲 pp.23-28 
ページ数
発行日 2010-09-22 (US) 


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