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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-10-22 16:20 原子スケールで平坦なSiO2/Si酸化膜界面歪の評価 ○服部真季（明大）・小瀬村大亮（明大/学振）・武井宗久・永田晃基・赤松弘彬・富田基裕・水上雄輝・橋口裕樹・山口拓也・小椋厚志（明大）・諏訪智之・寺本章伸・服部健雄・大見忠弘（東北大）・小金澤智之（高輝度光科学研究センター）  SDM2010-170 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-170 |
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| 抄録 | （和） | 原子スケールで平坦なSiO2/Si界面の構造や歪の状態を明らかにするために、ラマン分光法およびin-plane X線回折法に基づく測定・評価を行った。ラマン分光測定によりSiO2/Si界面近傍には圧縮歪が存在していることを確認した。また、in-plane X線回折法によりラマン分光法同様、酸化温度上昇とともに圧縮歪が増大する傾向が確認された。Si 110回折における測定では、通常禁制反射によりピークを観測できないとされているが、今回の結果からピークが2つにスプリットすることを確認した。この2つのピーク幅やピークの強度が、界面構造や局所歪と関係性があることが示唆された。 |
| （英） | We performed Raman spectroscopy and in-plane XRD measurement to clarify the structure and strain in Si at and near an atomically flat SiO2/Si interface. From the results of Raman spectroscopy, compressive strain exists at the SiO2/Si interface. In addition, it was also confirmed that the compressive strain increased with elevating oxidation temperature from the results of in-plane XRD. We observed Si 110 diffraction and its split into two peaks in spite of forbidden reflection. It was indicated that FWHM and peak intensity of these two peaks correlate with interfacial structure and local strain. | |
| キーワード | （和） | シリコン酸化膜 / ラマン分光法 / in-plane X線回折法 / / / / / |
| （英） | Silicon dioxide film / Raman spectroscopy / In-plane XRD / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 241, SDM2010-170, pp. 71-75, 2010年10月. | |
| 資料番号 | SDM2010-170 | |
| 発行日 | 2010-10-14 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2010-170 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2010-170 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2010-10-21 - 2010-10-22 |
| 開催地（和） | 東北大学 |
| 開催地（英） | Tohoku University |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Semiconductor process science and new technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2010-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 原子スケールで平坦なSiO2/Si酸化膜界面歪の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Strain evaluation in Si at atomically flat SiO2/Si interface |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | シリコン酸化膜 / Silicon dioxide film |
| キーワード(2)（和/英） | ラマン分光法 / Raman spectroscopy |
| キーワード(3)（和/英） | in-plane X線回折法 / In-plane XRD |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 服部 真季 / Maki Hattori / ハットリ マキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小瀬村 大亮 / Daisuke Kosemura / コセムラ ダイスケ |
| 第2著者 所属（和/英） | 明治大学/学振特別研究員 (略称： 明大/学振) Meiji University/Japan Society for the Promotion of Science (略称： Meiji Univ./JSPS) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 武井 宗久 / Munehisa Takei / タケイ ムネヒサ |
| 第3著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 晃基 / Kohki Nagata / ナガタ コウキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 赤松 弘彬 / Hiroaki Akamatsu / |
| 第5著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 富田 基裕 / Motohiro Tomita / ミズカミ ユウキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水上 雄輝 / Yuuki Mizukami / ヤマグチ タクヤ |
| 第7著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 橋口 裕樹 / Yuuki Hashiguchi / ハシグチ ヒロキ |
| 第8著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 拓也 / Takuya Yamaguchi / ヤマグチ タクヤ |
| 第9著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小椋 厚志 / Atsushi Ogura / オグラ アツシ |
| 第10著者 所属（和/英） | 明治大学 (略称： 明大) Meiji University (略称： Meiji Univ.) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa / スワ トモユキ |
| 第11著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター (略称： 東北大) New Industry Creation Hatchery Center (略称： NICHe) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto / テラモト アキノブ |
| 第12著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター (略称： 東北大) New Industry Creation Hatchery Center (略称： NICHe) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | 服部 健雄 / Takeo Hattori / ハットリ タケオ |
| 第13著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター (略称： 東北大) New Industry Creation Hatchery Center (略称： NICHe) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi / オオミ タダヒロ |
| 第14著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター (略称： 東北大) New Industry Creation Hatchery Center (略称： NICHe) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小金澤 智之 / Tomoyuki Koganezawa / コガネザワ トモユキ |
| 第15著者 所属（和/英） | 財団法人高輝度光科学センター (略称： 高輝度光科学研究センター) Japan Synchrotoron Radiation Research Institute (略称： JASRI) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-10-22 16:20:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2010-170 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.241 |
| ページ範囲 | pp.71-75 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2010-10-14 (SDM) |
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