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| 講演名 | 2010-10-22 14:40 ラジカル系光硬化樹脂に対するフッ化炭化水素鎖含有吸着単分子膜のはく離特性 ○鴻野晃洋・中川 勝（東北大）  OME2010-50 |
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| 抄録 | （和） | 光ナノインプリントは，石英ナノモールドを光硬化性樹脂に押し付け，10 nmレベルの微細構造を再現性よく転写する技術である。モールドをはく離する際，表面への樹脂の付着を防ぐために離型剤をモールド表面に作用させ，離型層を形成させる。多数回の樹脂の離型に対し，離型特性を維持できる離型剤の化学構造や離型不良が起きる原因は未だ明らかでない。本研究では，化学気相吸着法により離型層を形成させた石英レンズを，ラジカル重合系光硬化樹脂から多数回はく離したときのはく離特性について述べた。分子鎖長の異なるパーフルオロアルキルエーテル鎖を有するシランカップリング剤を離型剤として用いた。静的接触角測定から離型分子層の被覆率変化を検討した。多数回はく離後の離型層を真空紫外光により除去した後，離型層を再形成することで，離型層の耐久性を向上させることができた。はく離に必要な付着力を再現性よく測定できる装置を独自に作製した。多数回はく離に伴う付着力の変化やレンズ表面の構造変化，表面粗さから，離型性を向上させる因子を探求した。 |
| （英） | Adsorbed monolayers from (3,3,3-trifluoropropyl)trimethoxysilane (FAS3), (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydro- octyl)trimethoxysilane (FAS13), and (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl)trimethoxysilane (FAS17), were formed by chemical vapor surface modification on silica lens surfaces cleaned by exposure to vacuum ultraviolet (VUV) light at 172 nm. Changes in monolayer-modified lens surfaces concomitant with repeating a cycle of curing to induce the radical polymerization of a UV-curable resin and detaching the UV-cured resin were monitored by contact angle measurement with water and atomic force microscopy to investigate the property of the adsorbed monolayers as antisticking layers in UV nanoimprint lithography. A decrease of the contact angle for water with increasing the number of repeated cycles was mainly responsible for the removal of surface impurities in the form of nanoparticles on detaching the cured resin repeatedly. It was found that recoating the silica lens surface with monolayers from FAS13 and FAS17 after cleaning by VUV-light exposure resulted in the suppression of the decrease in the contact angle. These results indicate that the durability of an antisticking layer in UV nanoimprint lithography is markedly improved by the recoating. We measured adhesion forces generating when UV-cured resin was detached from surface-modified silica superstrates. We report dependences of the kind of fluoroalkyl-containing antisticking molecular layers on the adhesion forces and changes of the adhesion forces by increasing the number of detachment. We propose the antisticking molecular layer suitable for UV nanoimprint lithography. |
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| キーワード | （和） | 光ナノインプリントリソグラフィ / フルオロアルキル基含有離型分子層 / 付着力 / / / / / |
| （英） | UV nanoimprint lithography / Fluoroalkyl-containing antisticking molecular layers / Adhesive force / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, no. 243, OME2010-50, pp. 21-25, 2010年10月. | |
| 資料番号 | OME2010-50 | |
| 発行日 | 2010-10-15 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2010-50 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2010-10-22 - 2010-10-22 |
| 開催地（和） | NTT武蔵野研究開発センター |
| 開催地（英） | NTT Musashino R&D Center |
| テーマ（和） | 有機デバイス全般・一般 |
| テーマ（英） | Organic Devices, etc |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2010-10-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ラジカル系光硬化樹脂に対するフッ化炭化水素鎖含有吸着単分子膜のはく離特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Detachment properties of fluorinated hydrocarbon containing adsorbed monolayers on a radical-type UV-cured resin |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光ナノインプリントリソグラフィ / UV nanoimprint lithography |
| キーワード(2)（和/英） | フルオロアルキル基含有離型分子層 / Fluoroalkyl-containing antisticking molecular layers |
| キーワード(3)（和/英） | 付着力 / Adhesive force |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鴻野 晃洋 / Akihiro Kohno / コウノ アキヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中川 勝 / Masaru Nakagawa / |
| 第2著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-10-22 14:40:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2010-50 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.243 |
| ページ範囲 | pp.21-25 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2010-10-15 (OME) |
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