講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-10-22 13:25
イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製 ○松田 剛(東京農工大)・泉田和夫(住友精密工業)・田中邦明・臼井博明(東京農工大) OME2010-47 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2010-47 |
抄録 |
(和) |
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化アルキルアクリレートモノマーを蒸着した結果,高い撥水性を示すフッ素系高分子薄膜が得られた.これに対しイオン照射なしの蒸着では,薄膜を堆積することはできなかった.金表面では平坦な薄膜が得られたが,ガラス表面では膜表面に凹凸が観察された.これは未反応モノマーの凝集物と考えられ,HCFC-225溶媒で膜表面を洗浄することで平坦性を向上させることができた.本手法を用いてガラス表面に厚さ100 nmの高分子薄膜を形成した結果,光反射率を8%から3%へ低減できた. |
(英) |
Ion-assisted deposition was employed as a new technique for preparing fuluoropolymer thin films. A fluorinated alkylacrylate monomer was deposited on the substrate surface under irradiation of low energy Ar ions. As a consequence, highly hydrophobic fluoropolymer thin films were obtained. However, no films were accumulated when the monomer was deposited without ion irradiation. The films deposited on Au surface had excellent smoothness. On the other hand, the films deposited on glass substrate had considerable extrusions due probably to coagulation of monomer residue. The roughness was improved by rinsing the film with HCFC-225 solvent. By depositing a 100-nm thick film on glass surface, the reflectance was reduced from 8% to 3%. |
キーワード |
(和) |
イオンアシスト蒸着 / 蒸着重合 / フッ素系高分子 / フッ化アルキルアクリレート / 反射防止膜 / / / |
(英) |
ion-assisted deposition / deposition polymerization / fluoropolymer / fluorinated alkylacrylate / antireflective coating / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 243, OME2010-47, pp. 5-10, 2010年10月. |
資料番号 |
OME2010-47 |
発行日 |
2010-10-15 (OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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