講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-10-29 11:15
交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討 ○清水健児・丹内俊郎・松井博章・清水英彦・岩野春男・川上貴浩(新潟大) CPM2010-104 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-104 |
抄録 |
(和) |
Mg膜とCu膜を交互に積層する方法により,堆積時の基板温度及びスパッタガス圧を変化させたMg-Cu薄膜を作製し,水素化を行う前の膜の微細構造と光学的特性との関係の検討を行った。その結果,膜堆積時のスパッタ粒子のエネルギーや膜に加える熱エネルギーを低くすることにより,水素化時の透過率が高くなる傾向があった。このことより,水素化時の透過率はMgの結晶のサイズ及びMg2Cu合金に関係し,MgとMg2Cu合金が微結晶で存在する方が,水素化時の透過率は向上すると考えられた。 |
(英) |
In order to examine the relations between the microstructure of the Mg-Cu thin films before hydrogen absorption and switchable mirror effect, Mg-Cu thin films were deposited by the changing the substrate temperature and sputtering gas pressure using alternate layer deposition of Mg film and Cu film by sputtering method. As a result, the transmittance of the films in a dilution hydrogen gas atmosphere tended to increases as the energy of deposition particles and substrate temperature with sputtering process decreases. Therefore, the crystal size of Mg and Mg2Cu in the film depended on the transmittance of the film in a dilution hydrogen gas atmosphere. |
キーワード |
(和) |
Mg-Cu薄膜 / Mg-Ni薄膜 / 交互積層 / 調光ミラー / / / / |
(英) |
Mg-Cu Thin Film / Mg-Ni Thin Film / alternate layer deposition / switchable mirror / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 261, CPM2010-104, pp. 65-69, 2010年10月. |
資料番号 |
CPM2010-104 |
発行日 |
2010-10-21 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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