お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2010-10-29 11:15
交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討
清水健児丹内俊郎松井博章清水英彦岩野春男川上貴浩新潟大CPM2010-104 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-104
抄録 (和) Mg膜とCu膜を交互に積層する方法により,堆積時の基板温度及びスパッタガス圧を変化させたMg-Cu薄膜を作製し,水素化を行う前の膜の微細構造と光学的特性との関係の検討を行った。その結果,膜堆積時のスパッタ粒子のエネルギーや膜に加える熱エネルギーを低くすることにより,水素化時の透過率が高くなる傾向があった。このことより,水素化時の透過率はMgの結晶のサイズ及びMg2Cu合金に関係し,MgとMg2Cu合金が微結晶で存在する方が,水素化時の透過率は向上すると考えられた。 
(英) In order to examine the relations between the microstructure of the Mg-Cu thin films before hydrogen absorption and switchable mirror effect, Mg-Cu thin films were deposited by the changing the substrate temperature and sputtering gas pressure using alternate layer deposition of Mg film and Cu film by sputtering method. As a result, the transmittance of the films in a dilution hydrogen gas atmosphere tended to increases as the energy of deposition particles and substrate temperature with sputtering process decreases. Therefore, the crystal size of Mg and Mg2Cu in the film depended on the transmittance of the film in a dilution hydrogen gas atmosphere.
キーワード (和) Mg-Cu薄膜 / Mg-Ni薄膜 / 交互積層 / 調光ミラー / / / /  
(英) Mg-Cu Thin Film / Mg-Ni Thin Film / alternate layer deposition / switchable mirror / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 110, no. 261, CPM2010-104, pp. 65-69, 2010年10月.
資料番号 CPM2010-104 
発行日 2010-10-21 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2010-104 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2010-104

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2010-10-28 - 2010-10-29 
開催地(和) 信州大学 工学部 地域共同研究センター3階研修室 
開催地(英)  
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2010-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 交互積層法によるMg-Cu薄膜の特性の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Examination of the Mg-Cu Thin Films by Alternate Layer Deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Mg-Cu薄膜 / Mg-Cu Thin Film  
キーワード(2)(和/英) Mg-Ni薄膜 / Mg-Ni Thin Film  
キーワード(3)(和/英) 交互積層 / alternate layer deposition  
キーワード(4)(和/英) 調光ミラー / switchable mirror  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 健児 / Takeru Shimizu / シミズ タケル
第1著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 丹内 俊郎 / Toshiro Tannai / タンナイ トシロウ
第2著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 松井 博章 / Hiroaki Matsui / マツイ ヒロアキ
第3著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ
第4著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ
第5著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ
第6著者 所属(和/英) 新潟大学 (略称: 新潟大)
Niigata University (略称: Niigata Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2010-10-29 11:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2010-104 
巻番号(vol) vol.110 
号番号(no) no.261 
ページ範囲 pp.65-69 
ページ数
発行日 2010-10-21 (CPM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会