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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-12-10 09:30 ［招待講演］CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価 ○遠藤 恭・三束芳央・大川耕平・島田 寛・山口正洋（東北大）  MR2010-49 |
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| 抄録 | （和） | 最近急速に発展している磁気記録およびスピントロニクス分野では，Ni-Fe薄膜の高速磁化反転の機構解明が重要な研究課題の一つとなっている． 我々は，Ni組成（x）および遷移金属（M）組成（y）の異なる50 nm厚のNixFe1-x膜および(Ni-Fe)1-yMy膜について，高速磁化反転の支配要因であるダンピング定数（α）をCPW-FMR測定法により，飽和磁歪（λs）を光てこ法により評価し，αとλsの相関を系統的に調べた．NixFe1-x膜に関しては，αはxの増加にともない緩やかに減少し，x=0.78付近で最小となり，その後増加している．また，λsはxの増加にともない単調に減少している．また，(Ni-Fe)1-yMy膜に関しては，いずれのMにおいても，αとλsはいずれもyの増加にともないほぼ単調に増加し，その変化量はPt，Au，Pd，Crの順で大きくなっている．これらの結果から，Ni-Fe系薄膜では，αとλsが相間関係にあり，αの支配因子が磁気弾性エネルギーによっていることを確認できた．また，αの制御法として遷移金属の添加が有効であることを示している． |
| （英） | This paper reports the study on the damping constants (α) of NixFe1-x (0.65<x<0.86) and (Ni-Fe)1-yMy (M=Pt, Au, Pd, Cr; 0<y<0.15) films on glass substrate using a CPW-FMR measurement, and discusses the effect of saturation magnetostriction (λs) on α in these films in detail. In the case of NixFe1-x films, α slightly decreases for 0.67 < x < 0.78, and then increases for 0.78 < x < 0.85, resulting in a minimum α at x=0.78. λs monotonically decreases from positive value to negative one with increasing x, and is zero near x=0.81. In the case of (Ni-Fe)1-yMy films, both α and |λs| linearly increases with increasing y. Furthermore, the increments of α and the absolute value of λs (|λs|) to y are markedly enhanced in the order of M = Pt, Au, Pd, and Cr suggesting that 5d transition metal dopants are more influential on both α and λs than 3d and 4d transition metal dopants due to the strong spin-orbit interaction. Based on these results, it is speculated that the dominant factor of α in NixFe1-x and (Ni-Fe)1-xMx films is the magnetoelastic energy (Eσ). These results also demonstrate that α can be controlled effectively through the change in Eσ by transition metal dopants. | |
| キーワード | （和） | CPW-FMR測定法 / Ni-Fe薄膜 / ダンピング定数（α） / 飽和磁歪（λs） / 遷移金属添加 / / / |
| （英） | CPW-FMR measurement / Ni-Fe films / Damping constant (α) / Saturation magnetostriction（λs） / Transition metal dopants / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 110, 2010年12月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2010-12-02 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2010-49 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ITE-MMS MRIS |
| 開催期間 | 2010-12-09 - 2010-12-10 |
| 開催地（和） | 愛媛大学 総合メディアセンター |
| 開催地（英） | Ehime Univ. |
| テーマ（和） | 信号処理および一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2010-12-MMS-MR |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study on the damping constant of magnetic thin film using a coplanar waveguide (CPW)-ferromagnetic resonance (FMR) measurement method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | CPW-FMR測定法 / CPW-FMR measurement |
| キーワード(2)（和/英） | Ni-Fe薄膜 / Ni-Fe films |
| キーワード(3)（和/英） | ダンピング定数（α） / Damping constant (α) |
| キーワード(4)（和/英） | 飽和磁歪（λs） / Saturation magnetostriction（λs） |
| キーワード(5)（和/英） | 遷移金属添加 / Transition metal dopants |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 遠藤 恭 / Yasushi Endo / エンドウ ヤスシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三束 芳央 / Yoshio Mitsuzuka / ミツヅカ ヨシオ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大川 耕平 / Kohei Okawa / オオカワコ ウヘイ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 島田 寛 / Yutaka Shimada / シマダ ユタタ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 正洋 / Masahiro Yamaguchi / ヤマグチ マサヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-12-10 09:30:00 |
| 発表時間 | 45分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2010-49 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | no.329 |
| ページ範囲 | pp.51-58 |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | 2010-12-02 (MR) |
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