講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-05-20 16:40
GaN系HFETsの電流コラプスの測定 ~ 非極性a面GaN基板上HFET及びc-GaN基板上p-GaNゲートを用いたノーマリーオフ型JHFET ~ ○杉山貴之・本田善央・山口雅史・天野 浩(名大)・磯部康裕・押村吉徳・岩谷素顕・竹内哲也・上山 智・赤崎 勇(名城大)・今出 完・北岡康夫・森 勇介(阪大) ED2011-34 CPM2011-41 SDM2011-47 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-34 CPM2011-41 SDM2011-47 |
抄録 |
(和) |
c面および非極性a面GaN基板上AlGaN/GaN HFETの電流コラプスを測定した。 a-HFETはc面上のHFETsに比べ高い閾値電圧と電流コラプス耐性の両立に優れることを実証した。また、p-GaNゲートを用いたc面ノーマリーオフ型JHFETについても電流コラプスの測定を行った、ドライエッチングによって露出されたAlGaN表面のデバイスでは電流コラプスが極めて大きいが、SiNパッシベーションによって、as-grownで同じ組成・膜厚を有するAlGaNバリアのノーマリーオン型HFETsと同程度まで電流コラプス耐性が向上した。 |
(英) |
We measured current collapse in AlGaN/GaN HFETs on an a-plane GaN substrate. Non polar HFETs are promising for realizing a high Vth and a small current collapse than c-plane HFETs. We also measured current collapse in normally off mode AlGaN/GaN JHFETs with a p-GaN gate. The large current collapse was observed in unpassivated sample, because AlGaN barrier of JHFETs was exposed to air by dry etching. On the other hand current collapse in the SiNx-passivated JHFETs is small and almost the same as that in as-grown HFETs. |
キーワード |
(和) |
AlGaN/GaN / HFETs / 電流コラプス / 非極性 / ノーマリーオフ / GaN基板 / / |
(英) |
AlGaN/GaN / HFETs / current collapse / non-polar / normally-off / GaN substrate / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 44, ED2011-34, pp. 175-178, 2011年5月. |
資料番号 |
ED2011-34 |
発行日 |
2011-05-12 (ED, CPM, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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