講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-05-20 14:15
スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成と評価 ○中村光宏・丹羽彬夫・以西雅章(静岡大) ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 |
抄録 |
(和) |
RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している。本研究では、様々な条件で薄膜を生成し、薄膜の膜厚の測定、X線回折による生成物質の同定、走査電子顕微鏡による表面の観察を行い、それぞれの薄膜を比較して生成条件による薄膜の変化を評価した。その結果、生成条件を変数とした膜厚の規則性の把握、生成した薄膜の同定に成功した。 |
(英) |
The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. In this research, we have prepared thin films under various conditions, measured the film thickness of them, identified the materials by X-ray diffraction and observed the surface by scanning electron microscopy. We evaluated the variation of film properties with varying preparation. The relationship between film thickness and deposition time was clarified. The film composition was identified through comparing film thickness by using both gravimetric and physical methods. |
キーワード |
(和) |
LiMn2O4薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / Li二次電池 / / / / / |
(英) |
LiMn2O4 thin film / RF magnetron sputtering / Li secondary batteries / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 45, CPM2011-36, pp. 145-149, 2011年5月. |
資料番号 |
CPM2011-36 |
発行日 |
2011-05-12 (ED, CPM, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 |
研究会情報 |
研究会 |
CPM SDM ED |
開催期間 |
2011-05-19 - 2011-05-20 |
開催地(和) |
名古屋大学 VBL |
開催地(英) |
Nagoya Univ. (VBL) |
テーマ(和) |
結晶成長、評価技術及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) |
テーマ(英) |
|
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2011-05-CPM-SDM-ED |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成と評価 |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Preparation and evaluation of LiMn2O4 films prepared by sputtering method |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
LiMn2O4薄膜 / LiMn2O4 thin film |
キーワード(2)(和/英) |
RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
キーワード(3)(和/英) |
Li二次電池 / Li secondary batteries |
キーワード(4)(和/英) |
/ |
キーワード(5)(和/英) |
/ |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中村 光宏 / Mitsuhiro Nakamura / ナカムラ ミツヒロ |
第1著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
丹羽 彬夫 / Akio Niwa / ニワ アキオ |
第2著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
第3著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2011-05-20 14:15:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
ED2011-29, CPM2011-36, SDM2011-42 |
巻番号(vol) |
vol.111 |
号番号(no) |
no.44(ED), no.45(CPM), no.46(SDM) |
ページ範囲 |
pp.145-149 |
ページ数 |
5 |
発行日 |
2011-05-12 (ED, CPM, SDM) |