| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2011-05-20 17:05
GaInNチャネルHFETのAlInNバリア層の検討 ○池田和弥・磯部康裕・一木宏充・堀尾尚史・榊原辰幸・岩谷素顕・竹内哲也・上山 智(名城大)・赤サキ 勇(名城大/名大)・天野 浩(名大) ED2011-35 CPM2011-42 SDM2011-48 |
| 抄録 |
(和) |
ヘテロ接合電界効果トランジスタ(HFET)のチャネル層にGaInN を用いることにより、高いバンドオフセットを持つこと、さらにはInN 中の伝導帯電子の有効質量が軽いことから、究極的な大電力動作可能なデバイスが期待される。さらに、AlInN は大きなバンドオフセット、及びGaInN と作製温度が近いという特長を有している。
本研究では、AlInN をバリア層に使用したAlInN/AlN/GaInN/GaN HFET 構造を作製し良好な静特性を確認した。 |
| (英) |
GaInN channel heterostructure field-effect transistors (HFETs) are promising for applications involving high operation current because they spontaneously produce high-density sheet carriers and strongly confine two-dimensional electron gases (2DEGs) owing to their large conduction band offset, and the large polarization charges. HFET using an AlInN barrier layer is also promising for a lattice-matched large-bandgap barrier structure. In addition, the MOVPE growth conditions for GaInN channel and AlInN barriers are similar. Thus, the combination of these materials is expected to achieve high-performance HFETs.
In this study, we report on the electrical properties of AlInN/GaInN based heterostructures fabricated on a GaN template. We also fabricated and characterized AlInN/GaInN HFETs. |
| キーワード |
(和) |
AlInN / GaInN / AlN / HFET / / / / |
| (英) |
AlInN / GaInN / AlN / HFET / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 44, ED2011-35, pp. 179-183, 2011年5月. |
| 資料番号 |
ED2011-35 |
| 発行日 |
2011-05-12 (ED, CPM, SDM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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ED2011-35 CPM2011-42 SDM2011-48 |