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講演抄録/キーワード
講演名 2011-06-30 15:30
イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
抄録 (和) ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面をクリーニングすると同時にその表面を平滑化,活性化することにより膜/基板界面を改質し,密着性に優れた均質なフッ素系高分子膜を形成できる可能性が示された.スピンコート法による塗布型フッ素系高分子膜と比較した結果,イオンアシストを用いることで密着性の優れた薄膜が得られることを実証した.またイオン照射条件を制御することにより膜物性が変化し,低照射エネルギーで製膜することでフッ素系高分子固有の性質を持つ低表面エネルギーかつ低屈折率の薄膜が得られた.得られた膜は屈折率が低い特性を活かし,反射防止膜として応用可能である. 
(英) A novel dry process for depositing fluoropolymer thin film was developed by vapor deposition polymerization under the assistance by ion irradiation. The ion irradiation is effective in removing the impurities on the substrate surface. Moreover, it enables smoothening, chemical activation and physical treatment of the substrate surface. As a consequence, highly uniform fluoropolymer thin films with excellent adhesion were obtained. Their adhesion strength was compared to those fluoropolymer films that were prepared by the spin-coating method. Moreover, the ion-assisted deposition polymerization was capable of controlling the film characteristics by adjusting the ion acceleration voltage. The deposited films have low refractive index, which makes them attractive as the antireflective coating.
キーワード (和) イオン照射アシスト蒸着 / 蒸着重合 / フッ素系高分子 / フッ化アルキルアクリレート / 密着性 / 表面改質 / 反射防止膜 /  
(英) ion-assisted deposition / deposition polymerization / fluoropolymer / fluorinated alkylacrylate / antireflective coating / surface treatment / adhesion strength /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 110, OME2011-29, pp. 41-46, 2011年6月.
資料番号 OME2011-29 
発行日 2011-06-23 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29

研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2011-06-30 - 2011-06-30 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 材料デバイスサマーミーティング 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OME 
会議コード 2011-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Adhesion Improvement of Fluoropolymer Thin Films by Ion-Assisted Vapor Deposition Polymerization 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) イオン照射アシスト蒸着 / ion-assisted deposition  
キーワード(2)(和/英) 蒸着重合 / deposition polymerization  
キーワード(3)(和/英) フッ素系高分子 / fluoropolymer  
キーワード(4)(和/英) フッ化アルキルアクリレート / fluorinated alkylacrylate  
キーワード(5)(和/英) 密着性 / antireflective coating  
キーワード(6)(和/英) 表面改質 / surface treatment  
キーワード(7)(和/英) 反射防止膜 / adhesion strength  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 泉田 和夫 / Kazuo Senda / センダ カズオ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. Agricul. & Technol.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松田 剛 / Tsuyoshi Matsuda / マツダ ツヨシ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. Agricul. & Technol.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka / タナカ クニアキ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. Agricul. & Technol.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 臼井 博明 / Hiroaki Usui /
第4著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyo Univ. Agricul. & Technol.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-06-30 15:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OME 
資料番号 EMD2011-15, CPM2011-51, OME2011-29 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.108(EMD), no.109(CPM), no.110(OME) 
ページ範囲 pp.41-46 
ページ数
発行日 2011-06-23 (EMD, CPM, OME) 


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