講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-07-04 09:00
高温熱処理とMIPS構造によるLa-silicate/Si界面特性の改善と低EOTの実現 ○川那子高暢・角嶋邦之・Parhat Ahmet・筒井一生・西山 彰・杉井信之・名取研二・服部健雄・岩井 洋(東工大) SDM2011-50 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2011-50 |
抄録 |
(和) |
本論文では、低EOTと良好な界面特性の両立に向けた直接接合La-silicate/Si構造の界面制御について報告する。800 oC、30分間の熱処理を行うことで界面準位を1.6 x 1011 cm-2eV-1まで低減することができたが、EOTの著しい増加を確認した。高温熱処理とMetal Inserted Poly-Si (MIPS)構造を組み合わせることで、La-silicate/Si界面のsilicate化反応を制御し、良好な界面特性を維持したまま大幅なEOT薄膜化に成功した。さらに直接接合La-silicate/Si構造を用いてEOT0.62nmのnMOSFETを実現し、実効電界1MV/cmにおいて155cm2/VsecというHf系絶縁膜に匹敵する実効電子移動度を示した。 |
(英) |
This paper reports our experimental study for further EOT scaling with small interface state density based on controlling direct contact La-silicate/Si interface. The interface state density of 1.6 x 1011 cm-2eV-1 can be achieved by annealing at 800 oC for 30min in forming gas while significant increase in EOT has been also observed. Increase in EOT caused by high temperature annealing has been drastically inhibited by Metal Inserted Poly-Si (MIPS) stacks with high quality interface. The effective electron mobility of 155 cm2/Vsec at 1MV/cm with an EOT of 0.62 nm has been achieved in direct contact La-silicate/Si structure by combination of MIPS stacks with high temperature annealing. |
キーワード |
(和) |
EOT / high-k / 希土類酸化物 / silicate / 界面特性 / 実効移動度 / / |
(英) |
EOT / high-k / rare earth oxide / silicate / interfacial property / effective mobility / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 114, SDM2011-50, pp. 1-5, 2011年7月. |
資料番号 |
SDM2011-50 |
発行日 |
2011-06-27 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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