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講演抄録/キーワード
講演名 2011-10-20 16:45
マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究
藤野高弘小池昭史静岡大)・長尾昌善吉田知也西 季産総研)・村田英一酒井健太郎名城大)・根尾陽一郎青木 徹三村秀典静岡大ED2011-65 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-65
抄録 (和) 我々研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒(マイクロカラム)の実現を目標としている.更なる高精細なクロスオーバー形成が可能となれば,高密度に集積化されたマルチビームが実現可能となり,マスクレスリソグラフィーへの応用が期待される.これまでに,引き出し電極以外に4極から構成されるマイクロカラムの試作を行い,その収束特性の評価を行った.この結果,1mmの作動距離おいて40m径のクロスオーバー形成に成功している.電子軌道計算により,更なるスポット径縮小を検討した結果,我々のマイクロサイズ電子線筐筒の電子銃部には,加速電圧10V程度で300nm以下の平行ビームを形成する事が要求される事が明らかとなった.この仕様を実現する為に,引き出し電極,収束電極,くびれ電極の3極から構成される電子銃を提案,設計及び作製・評価した結果について報告する. 
(英) Our final goal is to fabricate truly meaning micro-column, that consists of micro-sized field emitter and electro optics lens by using semiconductor processes. When micro-columns could be integrated with high density, their finely focused multi-beams can also be realized. It has highly potential for maskless lithography (ML2). It was already reported that the previous micro-column with 5 stacked gate electrodes made a certain crossover less than 40 m in diameter. However, to reduce beam spot, the specification for electron gun was realized. After estimating from electron orbit simulation,it was cleared the following conditions, electron beam must be accelerated less than 10 eV and its diameter must be less than 300nm. The electron beam should be parallel, and so on.This report described about optimal structure of electron gun and its electron emission and optical properties.
キーワード (和) マイクロカラム / マルチビーム / マスクレスリソグラフィー / くびれ電極 / / / /  
(英) Micro-column / Multi-beam / Maskless lithography / West electrode / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 111, no. 248, ED2011-65, pp. 27-32, 2011年10月.
資料番号 ED2011-65 
発行日 2011-10-13 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2011-65 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-65

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2011-10-20 - 2011-10-21 
開催地(和) 八戸ポータルミュージアム はっち 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2011-10-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on the electron gun for Micro-Column Electron Beam 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マイクロカラム / Micro-column  
キーワード(2)(和/英) マルチビーム / Multi-beam  
キーワード(3)(和/英) マスクレスリソグラフィー / Maskless lithography  
キーワード(4)(和/英) くびれ電極 / West electrode  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤野 高弘 / Takahiro Fujino / フジノ タカヒロ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所 (略称: 静岡大)
Research Institute of Electronics, Shizuoka University (略称: RIE Shizuoka Univ)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小池 昭史 / Akifumi Koike / コイケ アキフミ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所 (略称: 静岡大)
Research Institute of Electronics, Shizuoka University (略称: RIE Shizuoka Univ)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ
第3著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Idustrial Science & Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 知也 / Tomoya Yoshida / ヨシダ トモヤ
第4著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Idustrial Science & Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 西 季 / Takashi Nishi / ニシ タカシ
第5著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Idustrial Science & Technology (略称: AIST)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 村田 英一 / Hidekazu Murata / ムラタ ヒデカズ
第6著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 酒井 健太郎 / Kentaro Sakai / サカイ ケンタロウ
第7著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 根尾 陽一郎 / Yoichiro Neo / ネオ ヨウイチロウ
第8著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所 (略称: 静岡大)
Research Institute of Electronics, Shizuoka University (略称: RIE Shizuoka Univ)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 青木 徹 / Toru Aoki / アオキ トオル
第9著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所 (略称: 静岡大)
Research Institute of Electronics, Shizuoka University (略称: RIE Shizuoka Univ)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 三村 秀典 / Hidenori Mimura / ミムラ ヒデノリ
第10著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所 (略称: 静岡大)
Research Institute of Electronics, Shizuoka University (略称: RIE Shizuoka Univ)
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講演者 第1著者 
発表日時 2011-10-20 16:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2011-65 
巻番号(vol) vol.111 
号番号(no) no.248 
ページ範囲 pp.27-32 
ページ数
発行日 2011-10-13 (ED) 


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