講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-10-20 16:45
マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究 ○藤野高弘・小池昭史(静岡大)・長尾昌善・吉田知也・西 季(産総研)・村田英一・酒井健太郎(名城大)・根尾陽一郎・青木 徹・三村秀典(静岡大) ED2011-65 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2011-65 |
抄録 |
(和) |
我々研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒(マイクロカラム)の実現を目標としている.更なる高精細なクロスオーバー形成が可能となれば,高密度に集積化されたマルチビームが実現可能となり,マスクレスリソグラフィーへの応用が期待される.これまでに,引き出し電極以外に4極から構成されるマイクロカラムの試作を行い,その収束特性の評価を行った.この結果,1mmの作動距離おいて40m径のクロスオーバー形成に成功している.電子軌道計算により,更なるスポット径縮小を検討した結果,我々のマイクロサイズ電子線筐筒の電子銃部には,加速電圧10V程度で300nm以下の平行ビームを形成する事が要求される事が明らかとなった.この仕様を実現する為に,引き出し電極,収束電極,くびれ電極の3極から構成される電子銃を提案,設計及び作製・評価した結果について報告する. |
(英) |
Our final goal is to fabricate truly meaning micro-column, that consists of micro-sized field emitter and electro optics lens by using semiconductor processes. When micro-columns could be integrated with high density, their finely focused multi-beams can also be realized. It has highly potential for maskless lithography (ML2). It was already reported that the previous micro-column with 5 stacked gate electrodes made a certain crossover less than 40 m in diameter. However, to reduce beam spot, the specification for electron gun was realized. After estimating from electron orbit simulation,it was cleared the following conditions, electron beam must be accelerated less than 10 eV and its diameter must be less than 300nm. The electron beam should be parallel, and so on.This report described about optimal structure of electron gun and its electron emission and optical properties. |
キーワード |
(和) |
マイクロカラム / マルチビーム / マスクレスリソグラフィー / くびれ電極 / / / / |
(英) |
Micro-column / Multi-beam / Maskless lithography / West electrode / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 248, ED2011-65, pp. 27-32, 2011年10月. |
資料番号 |
ED2011-65 |
発行日 |
2011-10-13 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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