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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-11-18 09:25 Deformation of Crystal Morphology in Tin Plated Contact Layer caused by Loading ○Terutaka Tamai（Elcontech Consulting）・Shigeru Sawada（Mie Univ.）・Yasuhiro Hattori（AutoNetworks Lab.）  EMD2011-90 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | Tin (Sn) plated contacts are widely applied to connector contacts in aut omotive industries. Surfaces of plated tin are covered with their oxide film. But it is possible to obtain low contact resistance by applying hi gh contact load. Tendency in down size of connectors will increase in ne ar future. Therefore, it is important to study contact resistance charac teristics under low contact load. In this study, mechanical deformation phenomena of tin crystal morophology of the plated layerin a contact are a under loading was studyed with respect to contact resistance behavior. It was found that in the contact configuration for hemisphere of platin um and tin plated flatcontacts, the hemisphere surfsce indented into the softer tin plated flat surface. As results, piling up the crystal grain s of the periphery of the contact trace occurs. During the piling up the periphery, sudden decrease in contact resistance was found. To clarify these phenomena, the mechanical stress distribution in the layer wasnume rically analyzed by FEM. Change in crystal morphorogy was obserbed by ST M and EBSP. The mechanical stress in the layer propagated to the periphe ry of the contact area along radial direction during loading. This pheno mena is very different from usual decrease in contact resistanec due to elastic and plastc deformation. |
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| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | tin plated contact / contact resistance / contact load / contact trace / connector / crystal morophlogy / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 299, EMD2011-90, pp. 127-132, 2011年11月. | |
| 資料番号 | EMD2011-90 | |
| 発行日 | 2011-11-10 (EMD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2011-90 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
| 開催期間 | 2011-11-17 - 2011-11-18 |
| 開催地（和） | 秋田大学 手形キャンパス |
| 開催地（英） | Akita Univ. Tegata Campus |
| テーマ（和） | 国際セッションIS-EMD2011 |
| テーマ（英） | International Session IS-EMD2011 |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | EMD |
| 会議コード | 2011-11-EMD |
| 本文の言語 | 英語 |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Deformation of Crystal Morphology in Tin Plated Contact Layer caused by Loading |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / tin plated contact |
| キーワード(2)（和/英） | / contact resistance |
| キーワード(3)（和/英） | / contact load |
| キーワード(4)（和/英） | / contact trace |
| キーワード(5)（和/英） | / connector |
| キーワード(6)（和/英） | / crystal morophlogy |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 玉井 輝雄 / Terutaka Tamai / タマイ テルタカ |
| 第1著者 所属（和/英） | エルコンテックコンサルティング (略称： エルコンテック) Elcontech Consulting (略称： Elcontech Consulting) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 澤田 滋 / Shigeru Sawada / サワダ シゲル |
| 第2著者 所属（和/英） | 三重大学 (略称： 三重大) Mie University (略称： Mie Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 服部 康弘 / Yasuhiro Hattori / ハットリ ヤスヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | オートネットワーク技術研究所 (略称： オートネットワーク技研) AutoNetworks Technologies, Ltd. (略称： AutoNetworks Lab.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-11-18 09:25:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | EMD |
| 資料番号 | EMD2011-90 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.299 |
| ページ範囲 | pp.127-132 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-11-10 (EMD) |
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