| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2012-04-24 14:50
[依頼講演]0.5V動作高速CMOS LSIの実現に向けたデバイス特性考慮回路設計 ○小田部 晃・伊藤清男・竹村理一郎・土屋龍太(日立)・堀口真志(ルネサス エレクトロニクス) ICD2012-15 |
| 抄録 |
(和) |
0.5 V動作高速CMOS LSIの実現可能性について検討を行った。はじめに,しきい値ばらつきを低減する技術として,完全空乏型MOSトランジスタ (FD MOS)と救済技術について述べる。次に,2種電源・2種しきい値ロジック回路と0.5 V 6-T SRAM向け昇圧ワード電圧方式を提案し,25 nmプレーナFD MOSを用いた評価結果を示す。さらに,プロセス・電圧・温度ばらつきを補正する回路の重要性について述べる。最後に,これらの技術を用いて,従来の1 V CMOS LSIに比べて消費電力が1/10である22 nm世代の0.5 V動作高速CMOS LSIの実現可能性について述べる。 |
| (英) |
The feasibility of 0.5-V memory-rich nanoscale CMOS LSIs was studied. First, nanoscale fully-depleted MOSFETs (FD MOS) and repair techniques are discussed in terms of Vt-variation. Second, dual-VDD dual-Vt logic circuits and a boosted word-voltage scheme for a 0.5-V 6-T SRAM are proposed and evaluated by simulation with a 25-nm planar FD MOS. Third, the importance of using compensation circuits for process, voltage, and temperature variations is stressed. Finally, it is concluded that a 0.5-V memory-rich CMOS LSI is possible while reducing the power to one-eighth that of a conventional 1-V CMOS LSI if the above devices and circuits are used. |
| キーワード |
(和) |
SRAM / ロジック回路 / SOTB / FinFET / しきい値ばらつき / / / |
| (英) |
SRAM / Logic Circuit / SOTB / FinFET / Threshold Voltage Variability / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 15, ICD2012-15, pp. 79-84, 2012年4月. |
| 資料番号 |
ICD2012-15 |
| 発行日 |
2012-04-16 (ICD) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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ICD2012-15 |
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