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講演抄録/キーワード
講演名 2012-05-18 15:15
TiO2薄膜の光触媒特性向上のための助触媒効果
以西雅章中村郁太稗田祐貴深澤史也静岡大)・星 陽一東京工芸大ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40
抄録 (和) あらまし 本研究は、RFマグネトロンスパッタリング法により生成した酸化チタン薄膜に銅と鉄を助触媒として担持することで光触媒特性の向上を図った。その結果、鉄を担持すると有機物分解特性と光励起親水性の両方が向上し、銅を担持すると有機物分解特性は鉄以上に高まるが光励起親水性は低下することが分かった。銅と鉄の担持にはSEM用イオンコーターを用いた。堆積速度の再現性向上を目的として、ターゲットと基板の間に金属の網を設置した。その結果、堆積速度の制御性が向上することが分かった。銅と鉄の膜厚は、有機物分解特性を向上させるための重要な変数の一つであることが分かった。 
(英) Abstract TiO2 films were prepared with RF magnetron sputtering method. The copper (cu) and iron (Fe) films were deposited on the TiO2 films. The effect of these films on the photocatalytic properties were evaluated. It was found that depositing Cu as a co-catalyst improved organic-decomposition properties, but deteriorated hydrophilicity. In the case of Fe, it was found that both organic-decomposition properties and hydrophilicity were improved. The deposition rate of Cu and Fe was successfully controlled by using a metallic mesh installing in the ion-coater. We confirmed that the thickness of Cu and Fe films was one of the most important parameters to improve the organic-decomposition properties.
キーワード (和) TiO2薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / 光触媒 / 白金担持 / / / /  
(英) TiO2 thin films / RF magnetron sputtering / Photocatalyst / Pratinum deposition / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 33, CPM2012-22, pp. 105-109, 2012年5月.
資料番号 CPM2012-22 
発行日 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40

研究会情報
研究会 ED SDM CPM  
開催期間 2012-05-17 - 2012-05-18 
開催地(和) 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 
開催地(英) VBL, Toyohashi Univ. of Technol. 
テーマ(和) 結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2012-05-ED-SDM-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) TiO2薄膜の光触媒特性向上のための助触媒効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Co-catalyitic effect on improving the photocatalytic properties of TiO2 films 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) TiO2薄膜 / TiO2 thin films  
キーワード(2)(和/英) RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering  
キーワード(3)(和/英) 光触媒 / Photocatalyst  
キーワード(4)(和/英) 白金担持 / Pratinum deposition  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 郁太 / Ikuta Nakamura / ナカムラ イクタ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 稗田 祐貴 / Yuuki Hieda / ヒエダ ユウキ
第3著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 深澤 史也 / Fumiya Fukazawa / フカザワ フミヤ
第4著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ
第5著者 所属(和/英) 東京工芸大学 (略称: 東京工芸大)
Tokyo Polytechnic University (略称: Tokyo Polytech.Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2012-05-18 15:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2012-38, CPM2012-22, SDM2012-40 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.32(ED), no.33(CPM), no.34(SDM) 
ページ範囲 pp.105-109 
ページ数
発行日 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) 


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