講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-05-30 16:20
[招待講演]微細化によるLSIの信頼性諸問題とその解決策 ○小林和淑(京都工繊大) VLD2012-5 |
抄録 |
(和) |
本講演では, LSIの微細化とともに表面化している信頼性に関する諸問題とその
解決法を紹介する. 取り扱う話題は, ばらつき, 一時故障, 経年劣化である.
ばらつきは, 主にLSIの製造時に起因する問題であり, ばらつきが大きいと, 設
計マージンを大きくとらなければならず, 微細化による速度向上の恩恵を打ち
消してしまう恐れがある. 一時故障は, ソフトエラーと呼ばれる主にパッケー
ジからのα線, 宇宙からの中性子線によるメモリやFFの一時的な反転であり,
自動車, サーバー, 医療機器などの信頼性の必要なLSIではすでに冗長化などの
対策が行われている. 微細化にともない, BTI (Bias Temperature
Instability)による経年劣化も顕在化している. BTIとは, トランジスタの酸化
膜の欠陥に起因する劣化である. BTIはゲートにかかるストレス電圧の履歴に依
存した劣化と回復を起こす. BTIはまだそのメカニズムに関して議論がつきな
い問題である. ここでは, 実測を元にしたエラーの実態やその対処法などにつ
いて紹介する. |
(英) |
According to aggressive process scaling, reliability issues on
semiconductor devices are becoming dominant such as variability,
temporal failure and aging degradation. Variability is related to the
device fabrication process. Timing margins at design time should be
enlarged as the fluctuation of transistor performance. It may diminish
the performance enhancement from process scaling. Temporal failures
are mainly caused by alpha particles from packages or neutrons from
outer space. These particles generate electron-hole pairs to flip
memory or flip-flops, which is so-called soft errors. Redundant
circuits are commonly utilized to mitigate soft errors. Aging
degradation is mainly caused by BTI (Bias Temperature Instability). In
BTI, transistors are degraded or recovered according to the stress
history on the gate bias. We introduce several mitigation techniques
based on the measurement results. |
キーワード |
(和) |
信頼性 / ばらつき / ソフトエラー / 一時故障 / 永久故障 / BTI / / |
(英) |
Reliability / Variability / Soft Error / Temporal Failure / Aging Degradation / BTI / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 71, VLD2012-5, pp. 25-30, 2012年5月. |
資料番号 |
VLD2012-5 |
発行日 |
2012-05-23 (VLD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
VLD2012-5 |
研究会情報 |
研究会 |
IPSJ-SLDM VLD |
開催期間 |
2012-05-30 - 2012-05-31 |
開催地(和) |
北九州国際会議場 |
開催地(英) |
Kitakyushu International Conference Center |
テーマ(和) |
システム設計および一般 |
テーマ(英) |
System Design, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
VLD |
会議コード |
2012-05-SLDM-VLD |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
微細化によるLSIの信頼性諸問題とその解決策 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
How to Mitigate Reliability-related Issues on Nano-scaled LSIs |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
信頼性 / Reliability |
キーワード(2)(和/英) |
ばらつき / Variability |
キーワード(3)(和/英) |
ソフトエラー / Soft Error |
キーワード(4)(和/英) |
一時故障 / Temporal Failure |
キーワード(5)(和/英) |
永久故障 / Aging Degradation |
キーワード(6)(和/英) |
BTI / BTI |
キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小林 和淑 / Kazutoshi Kobayashi / |
第1著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: KIT) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2012-05-30 16:20:00 |
発表時間 |
60分 |
申込先研究会 |
VLD |
資料番号 |
VLD2012-5 |
巻番号(vol) |
vol.112 |
号番号(no) |
no.71 |
ページ範囲 |
pp.25-30 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2012-05-23 (VLD) |
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