お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2012-10-26 15:40
塩素フリー溶液を用いたゾルゲル・硫化法によるCu2ZnSnS4薄膜の作製
佐久間広太田中久仁彦相澤卓実中野裕也打木久雄長岡技科大CPM2012-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2012-98
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 112, no. 265, CPM2012-98, pp. 29-32, 2012年10月.
資料番号 CPM2012-98 
発行日 2012-10-19 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2012-98 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2012-98

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2012-10-26 - 2012-10-27 
開催地(和) まちなかキャンパス長岡 
開催地(英)  
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2012-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 塩素フリー溶液を用いたゾルゲル・硫化法によるCu2ZnSnS4薄膜の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Preparation of Cu2ZnSnS4 thin film by sol-gel sulfurization method with Cl free coating solutions 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) /  
キーワード(2)(和/英) /  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐久間 広太 / Kota Sakuma / サクマ コウタ
第1著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 久仁彦 / Kunihiko Tanaka / タナカ クニヒコ
第2著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 相澤 卓実 / Takumi Aizawa / アイザワ タクミ
第3著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 中野 裕也 / Yuya Nakano / ナカノ ユウヤ
第4著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 打木 久雄 / Hisao Uchiki / ウチキ ヒサオ
第5著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2012-10-26 15:40:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2012-98 
巻番号(vol) vol.112 
号番号(no) no.265 
ページ範囲 pp.29-32 
ページ数
発行日 2012-10-19 (CPM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会