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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-10-27 09:10 コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製 ○横本拓也・荒井 崇・小坂孝之・岡島和希・山上朋彦・阿部克也・榊 和彦（信州大）  CPM2012-104 |
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| 抄録 | （和） | コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた 反応性スパッタリング法によりCuAlO$_{2}$薄膜の作製を試みた。 コールドスプレー法により作製したターゲットは合金ではなく複合金属状態であった。 ターゲットのCu組成を大きくしていくと、膜中のCu組成も 増加し、Al組成は減少した。 また、酸素流量を増加させることで、ターゲットのCu成分のスパッタリングレート が減少し、相対的にAlの組成比が増加することがわかった。 ターゲット組成Cu:Al=28:72、酸素流量3sccmの成膜条件において、ストイキオメトリーに近い 膜が得られた。また、この膜のXRD測定を行ったところアモルファスライク な膜であることがわかった。そこで、結晶化を図るためにアニール処理を 施した。しかし、CuOに起因するピークのみしか得られずCuAlO$_{2}$に起因する ピークは得られなかった。 |
| （英） | CuAlO2 film deposition was tried by reactive sputtering using Cu/Al targets prepared by cold spray method.The Cu/Al targets prepared by cold spray method were not alloy but metal composite.As the Cu composition ratio in the target increased,the Cu composition ratio in the films also increasd. The film with a near stoichiometric composition ratio was obtained at an oxygen flow rate of 3sccm by using a target with Cu:Al=28:72.The as-grown film structure was found to be amorphous from XRD mesurements.From XRD mesurements, Some CuO peaks and no CuAlO2 peaks were observed in the obtained this film anneald at 900℃ for 3 hours. |
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| キーワード | （和） | 反応性スパッタリング / TCO / CuAlO2 / コールドスプレー法 / / / / |
| （英） | reactive sputtering / TCO / CuAlO2 / cold spray method / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 265, CPM2012-104, pp. 61-64, 2012年10月. | |
| 資料番号 | CPM2012-104 | |
| 発行日 | 2012-10-19 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2012-104 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2012-10-26 - 2012-10-27 |
| 開催地（和） | まちなかキャンパス長岡 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2012-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | CuAlO2 film deposition by reactive sputtering using Cu/Al target prepared by Cold Spray method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 反応性スパッタリング / reactive sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | TCO / TCO |
| キーワード(3)（和/英） | CuAlO2 / CuAlO2 |
| キーワード(4)（和/英） | コールドスプレー法 / cold spray method |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 横本 拓也 / Takuya Yokomoto / ヨコモト タクヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 荒井 崇 / Takashi Arai / アライ タカシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小坂 孝之 / Takayuki Kosaka / コサカ タカユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡島 和希 / Kazuki Okajima / オカジマ カズキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山上 朋彦 / Tomohiko Yamakami / ヤマカミ トモヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 阿部 克也 / Katsuya Abe / アベ カツヤ |
| 第6著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 榊 和彦 / Kazuhiko Sakaki / サカキ カズヒコ |
| 第7著者 所属（和/英） | 信州大学 (略称： 信州大) Shinshu University (略称： Shinshu Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-10-27 09:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2012-104 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.265 |
| ページ範囲 | pp.61-64 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2012-10-19 (CPM) |
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