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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-11-16 14:30 回折偏光その場観察による表面レリーフ異方性ホログラム形成過程に関する研究 ○伊沢昌浩・佐々木友之・野田浩平（長岡技科大）・川月喜弘（兵庫県立大）・小野浩司（長岡技科大）  OME2012-58 OPE2012-130 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2012-58 OPE2012-130 |
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| 抄録 | （和） | 近年の光情報処理分野において高速かつ大容量なデータ転送と記録の実現のため,アゾベンゼンの光異性化反応を利用したホログラムが盛んに研究されている. アゾベンゼン分子を含んだ高分子材料は偏光の干渉光を照射することによって,光異性化反応による分子再配列と表面レリーフ形状の両方からなる回折格子が形成される場合がある.この形成機構は複雑であるが,高機能の記録材料の開発のために重要である.偏光ホログラムからの回折光の強度及び偏光状態には形成された回折格子の情報が全て含まれているものと考えられる.そこで,本研究では回折光の偏光状態をポラリメータで観察したので報告する. |
| （英） | Recently holographic recordings in azobenzene-containing media has been intensively studied in the researchfield of optical information processing and recording. Diffraction gratings by optical anisotropy due to photoisomerization and surface relief are formed in the polymer containing azobenzene by irradiating interference light of polarized beams. It is very important for development of highly functionalized recording medium to reveal the grating formation mechanism although the system under discussion is rather complex. The intensity and polarization state of diffracted light for the polarization hologram contain all the information of the induced grating structure. Therefore, in this study we observed since the polarization state of diffracted light by using a polarimeter. | |
| キーワード | （和） | アゾベンゼン / 偏光ホログラフィー / 光異性化 / 表面レリーフ / / / / |
| （英） | Azobenzene / Polarization holography / Photoisomerization / Surface Relief / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 296, OPE2012-130, pp. 19-24, 2012年11月. | |
| 資料番号 | OPE2012-130 | |
| 発行日 | 2012-11-09 (OME, OPE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2012-58 OPE2012-130 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2012-58 OPE2012-130 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME OPE |
| 開催期間 | 2012-11-16 - 2012-11-16 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 光機能性有機材料・デバイス、光非線形現象、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2012-11-OME-OPE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 回折偏光その場観察による表面レリーフ異方性ホログラム形成過程に関する研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study on the Formation of Surface Relief-Anisotropic Hologram by In-Situ Observation of Diffraction Polarization |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | アゾベンゼン / Azobenzene |
| キーワード(2)（和/英） | 偏光ホログラフィー / Polarization holography |
| キーワード(3)（和/英） | 光異性化 / Photoisomerization |
| キーワード(4)（和/英） | 表面レリーフ / Surface Relief |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 伊沢 昌浩 / Masahiro Izawa / イザワ マサヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐々木 友之 / Tomoyuki Sasaki / ササキ トモユキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野田 浩平 / Kohei Noda / ノダ コウヘイ |
| 第3著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川月 喜弘 / Nobuhiro Kawatsuki / カワツキ ノブヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学 (略称： 兵庫県立大) University of Hyogo (略称： Univ. Hyogo) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小野 浩司 / Hiroshi Ono / オノ ヒロシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-11-16 14:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | OME2012-58, OPE2012-130 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.295(OME), no.296(OPE) |
| ページ範囲 | pp.19-24 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2012-11-09 (OME, OPE) |
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