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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2013-10-25 11:50 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製 ○石井琢馬・佐藤祐二・渡邊貴晴・石井 清・佐久間洋志（宇都宮大）  CPM2013-107 |
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| 抄録 | （和） | 種々の方式のプラズマCVD法により単結晶を含めて良質なダイヤモンド薄膜が作製できるようになっているが，スパッタ法ではダイヤモンド構造単相の薄膜が形成しにくい場合が多い．本研究では，イオン密度が非常に高いプラズマ中で成膜が可能なガスフロースパッタ法に注目し，同手法によりダイヤモンド薄膜の作製を目指した．基板温度とプラズマの効果について基礎的検討を行った結果，600℃以上においてプラズマ密度が高い場合にナノ結晶ダイヤモンドを含む薄膜が成長することが推察された． |
| （英） | High-quality diamond thin films are successfully obtained by plasma-assisted CVD. On the other hand, carbon films with a diamond single phase are hardly prepared by PVD processes such as sputtering. In order to fabricate diamond films by PVD process, we investigated the deposition process and film structure of carbon films sputtered by gas flow sputtering (GFS) method. GFS is a high-pressure (～100 Pa) sputtering and has characteristics between PVD and CVD, and, moreover, enables the film deposition in a high-density plasma. The film structures of carbon films deposited at various temperatures and plasma densities were investigated, resulting in the observation of growth of nanocrystalline diamond films at substrate temperatures above 600 °C and under high-density plasma conditions. | |
| キーワード | （和） | スパッタリング / スパッタ膜 / カーボン薄膜 / ダイヤモンド薄膜 / / / / |
| （英） | Sputtering / Sputtered Film / Carbon Thin Film / Diamond Thin Film / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, no. 268, CPM2013-107, pp. 67-71, 2013年10月. | |
| 資料番号 | CPM2013-107 | |
| 発行日 | 2013-10-17 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2013-107 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2013-10-24 - 2013-10-25 |
| 開催地（和） | 新潟大ときめいと |
| 開催地（英） | Niigata Univ. Satellite Campus TOKIMEITO |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Preparation of Thin Films, Materials for Physics and Applications, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2013-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of carbon thin films by gas flow sputtering in high-density plasma |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | スパッタリング / Sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | スパッタ膜 / Sputtered Film |
| キーワード(3)（和/英） | カーボン薄膜 / Carbon Thin Film |
| キーワード(4)（和/英） | ダイヤモンド薄膜 / Diamond Thin Film |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石井 琢馬 / Takuma Ishii / イシイ タクマ |
| 第1著者 所属（和/英） | 宇都宮大学 (略称： 宇都宮大) Utsunomiya University (略称： Utsunomiya Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 祐二 / Yuji Satou / サトウ ユウジ |
| 第2著者 所属（和/英） | 宇都宮大学 (略称： 宇都宮大) Utsunomiya University (略称： Utsunomiya Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡邊 貴晴 / Takaharu Watanabe / ワタナベ タカハル |
| 第3著者 所属（和/英） | 宇都宮大学 (略称： 宇都宮大) Utsunomiya University (略称： Utsunomiya Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石井 清 / Kiyoshi Ishii / イシイ キヨシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 宇都宮大学 (略称： 宇都宮大) Utsunomiya University (略称： Utsunomiya Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐久間 洋志 / Hiroshi Sakuma / サクマ ヒロシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 宇都宮大学 (略称： 宇都宮大) Utsunomiya University (略称： Utsunomiya Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-10-25 11:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2013-107 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.268 |
| ページ範囲 | pp.67-71 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2013-10-17 (CPM) |
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