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講演抄録/キーワード
講演名 2013-11-15 14:35
MOSFETの1/f雑音におけるHoogeパラメータの統合モデル
大村泰久関西大SDM2013-113 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-113
抄録 (和) 本報告では、様々な反転層チャネルMOSFETの1/f雑音特性を表現するHoogeパラメータに対する輸送現象の次元性の影響を考察する。ここで提案する現象論的なHoogeパラメータモデルは、考察対象のHoogeパラメータの重要な特徴の解釈に対して物理学的根拠を与える。即ち、新たに3つの固有Hoogeパラメータを導入することによって、Hoogeパラメータの振る舞いを整理することが出来ることを示す。最後に、3つのHoogeパラメータについて、それぞれ理論的なモデルを提案し、統一的な解釈の見通しを述べる。 
(英) This paper considers the impact of transport dimensionality on the Hooge parameter behavior of various inversion-layer-channel MOSFETs. The phenomenological model proposed here gives a fundamental physical basis that allows important aspects of the Hooge parameter to be interpreted; the model also introduces three basic parameters (the Hooge parameter elements for the carrier-density fluctuation, the mobility fluctuation, and the cross-correlation component). Finally, theoretical models for the three basic parameters are proposed and the unified theory is examined using experimental results.
キーワード (和) Hooge パラメータ / 低次元輸送 / 遮蔽長 / 3つのHoogeパラメータ / / / /  
(英) Hooge parameter / low-dimensional transport / screening length / three Hooge parameters / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 296, SDM2013-113, pp. 77-82, 2013年11月.
資料番号 SDM2013-113 
発行日 2013-11-07 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2013-113 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-113

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2013-11-14 - 2013-11-15 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit Simulations, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2013-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) MOSFETの1/f雑音におけるHoogeパラメータの統合モデル 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Possible Unified Model for the Hooge Parameter in Inversion-Layer-Channel MOSFET 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Hooge パラメータ / Hooge parameter  
キーワード(2)(和/英) 低次元輸送 / low-dimensional transport  
キーワード(3)(和/英) 遮蔽長 / screening length  
キーワード(4)(和/英) 3つのHoogeパラメータ / three Hooge parameters  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大村 泰久 / Yasuhisa Omura /
第1著者 所属(和/英) 関西大学 (略称: 関西大)
Kansai University (略称: Kansai Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-11-15 14:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2013-113 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.296 
ページ範囲 pp.77-82 
ページ数
発行日 2013-11-07 (SDM) 


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