講演抄録/キーワード |
講演名 |
2013-11-15 15:00
チャネルドーピングによるランダム・テレグラフ・ノイズの変調及び移動度向上によるノイズ低減の検討 ○陳 杰智・東 悠介・平野 泉・三谷祐一郎(東芝) SDM2013-114 |
抄録 |
(和) |
(まだ登録されていません) |
(英) |
In this work, impacts of channel doping concentration on single-trap and multiple-trap induced random telegraph signal (RTS) noise are studied comprehensively, including trap time constants, current fluctuations, and threshold voltage shifts. Moreover, aiming at RTS noise suppression, an approach to suppress RTS noise is proposed by utilizing mobility enhancements. It is experimentally observed that, RTS noise as well as fluctuation amplitudes can be largely suppressed in pMOSFETs with higher hole mobility. Underlying physical mechanisms are also discussed for further understandings. |
キーワード |
(和) |
歪み / ランダム・テレグラフ・ノイズ / チャネルドーピング / 酸化膜 / / / / |
(英) |
strain / RTN / channel doping / SiO2 / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 113, no. 296, SDM2013-114, pp. 83-86, 2013年11月. |
資料番号 |
SDM2013-114 |
発行日 |
2013-11-07 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SDM2013-114 |
研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2013-11-14 - 2013-11-15 |
開催地(和) |
機械振興会館 |
開催地(英) |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
テーマ(和) |
プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
テーマ(英) |
Process, Device, Circuit Simulations, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2013-11-SDM |
本文の言語 |
英語(日本語タイトルあり) |
タイトル(和) |
チャネルドーピングによるランダム・テレグラフ・ノイズの変調及び移動度向上によるノイズ低減の検討 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Impacts of Channel Doping on Random Telegraph Signal Noise and Successful Noise Suppression by Mobility Enhancement |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
歪み / strain |
キーワード(2)(和/英) |
ランダム・テレグラフ・ノイズ / RTN |
キーワード(3)(和/英) |
チャネルドーピング / channel doping |
キーワード(4)(和/英) |
酸化膜 / SiO2 |
キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
陳 杰智 / Jiezhi Chen / チェン ジィエジィ |
第1著者 所属(和/英) |
株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
東 悠介 / Yusuke Higashi / ヒガシ ユスケ |
第2著者 所属(和/英) |
株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
平野 泉 / Izumi Hirano / ヒラノ イズミ |
第3著者 所属(和/英) |
株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三谷 祐一郎 / Yuichiro Mitani / ミタニ ユウイチロウ |
第4著者 所属(和/英) |
株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2013-11-15 15:00:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2013-114 |
巻番号(vol) |
vol.113 |
号番号(no) |
no.296 |
ページ範囲 |
pp.83-86 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2013-11-07 (SDM) |
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