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講演抄録/キーワード
講演名 2013-11-15 15:00
チャネルドーピングによるランダム・テレグラフ・ノイズの変調及び移動度向上によるノイズ低減の検討
陳 杰智東 悠介平野 泉三谷祐一郎東芝SDM2013-114 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-114
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) In this work, impacts of channel doping concentration on single-trap and multiple-trap induced random telegraph signal (RTS) noise are studied comprehensively, including trap time constants, current fluctuations, and threshold voltage shifts. Moreover, aiming at RTS noise suppression, an approach to suppress RTS noise is proposed by utilizing mobility enhancements. It is experimentally observed that, RTS noise as well as fluctuation amplitudes can be largely suppressed in pMOSFETs with higher hole mobility. Underlying physical mechanisms are also discussed for further understandings.
キーワード (和) 歪み / ランダム・テレグラフ・ノイズ / チャネルドーピング / 酸化膜 / / / /  
(英) strain / RTN / channel doping / SiO2 / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 113, no. 296, SDM2013-114, pp. 83-86, 2013年11月.
資料番号 SDM2013-114 
発行日 2013-11-07 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2013-114 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2013-114

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2013-11-14 - 2013-11-15 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit Simulations, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2013-11-SDM 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) チャネルドーピングによるランダム・テレグラフ・ノイズの変調及び移動度向上によるノイズ低減の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Impacts of Channel Doping on Random Telegraph Signal Noise and Successful Noise Suppression by Mobility Enhancement 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 歪み / strain  
キーワード(2)(和/英) ランダム・テレグラフ・ノイズ / RTN  
キーワード(3)(和/英) チャネルドーピング / channel doping  
キーワード(4)(和/英) 酸化膜 / SiO2  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 陳 杰智 / Jiezhi Chen / チェン ジィエジィ
第1著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 東 悠介 / Yusuke Higashi / ヒガシ ユスケ
第2著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 平野 泉 / Izumi Hirano / ヒラノ イズミ
第3著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 三谷 祐一郎 / Yuichiro Mitani / ミタニ ユウイチロウ
第4著者 所属(和/英) 株式会社東芝 (略称: 東芝)
Toshiba Corporation (略称: Toshiba)
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講演者 第1著者 
発表日時 2013-11-15 15:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2013-114 
巻番号(vol) vol.113 
号番号(no) no.296 
ページ範囲 pp.83-86 
ページ数
発行日 2013-11-07 (SDM) 


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