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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2013-12-13 16:20 誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング ○渡辺和貴・山口正樹・西川宏之（芝浦工大）  SDM2013-130 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12，BIT)において，ポリビニルピロリドン(Polyvinylpyrrolidone, PVP)添加による厚膜形成と，プロトン照射による直接パターニングについて検討を行った．有機原料溶液にPVPを50%添加することで，Si基板上に作成した厚膜において，c軸配向性の促進ならびに応力緩和によるクラック抑制効果を確認した．また， Biを30%過剰に添加することで，PVP添加による組成ずれを補正することができた．これらの条件を反映させたBIT厚膜において，プロトンビーム照射による微細加工を施し，直径5μmのドットパターンおよび10μm程度の任意のパターンが形成できることを示した． |
| （英） | In this study, we performed examination to form a thick film with the thing which added Polyvinylpyrrolidone (PVP), in the bismuth titanate (Bi4Ti3O12) which was a lead-free ferroelectric materials. We examined the direct patterning with these materials by the proton beam irradiation. Promotion of the c-axis orientation and a crack suppressant effect by the stress-relaxation were confirmed by adding PVP 50% in organic source solution. And, we succeeded in revising a composition gap by 30% excess Bi atoms. In addition, we formed a dot and arbitrary shape micro-patterns to the BIT thick film, which applied these conditions by the micromachining using the proton beam. | |
| キーワード | （和） | 強誘電体薄膜 / 微細加工 / クラック抑制 / PVP / チタン酸ビスマス / プロトンビーム / 直接描画 / |
| （英） | ferroelectric thin fIlm / micromachining / Prevention of cracking / PVP / bismuth titanate / proton beam writing / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, no. 351, SDM2013-130, pp. 85-89, 2013年12月. | |
| 資料番号 | SDM2013-130 | |
| 発行日 | 2013-12-06 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2013-130 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2013-12-13 - 2013-12-13 |
| 開催地（和） | 奈良先端科学技術大学院大学 |
| 開催地（英） | NAIST |
| テーマ（和） | シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ（英） | Fabrication and Characterization of Si related materials |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2013-12-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Ferroelectric Microstructures by Proton Beam Irradiation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 強誘電体薄膜 / ferroelectric thin fIlm |
| キーワード(2)（和/英） | 微細加工 / micromachining |
| キーワード(3)（和/英） | クラック抑制 / Prevention of cracking |
| キーワード(4)（和/英） | PVP / PVP |
| キーワード(5)（和/英） | チタン酸ビスマス / bismuth titanate |
| キーワード(6)（和/英） | プロトンビーム / proton beam writing |
| キーワード(7)（和/英） | 直接描画 / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 和貴 / Kazuki Watanabe / ワタナベ カズキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Techinology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 正樹 / Masaki Yamaguchi / ヤマグチ マサキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Techinology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西川 宏之 / Hiroyuki Nishikawa / ニシカワ ヒロユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Techinology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2013-12-13 16:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2013-130 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.351 |
| ページ範囲 | pp.85-89 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2013-12-06 (SDM) |
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