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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-02-27 16:10 極薄SOI膜のゼーベック係数制御とナノ構造熱電特性測定技術の構築 ○池田浩也・鈴木悠平・三輪一聡（静岡大）・ファイズ サレ（静岡大/学振）  ED2013-137 SDM2013-152 |
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| 抄録 | （和） | シリコンのナノ構造化により，熱電変換性能の向上が期待されている．シリコンのゼーベック係数にはフォノンドラッグの効果も強く寄与しているが，その詳細はまだ明らかになっていない．本研究では，極薄SOI（Si on insulator）膜におけるゼーベック係数のキャリア密度依存性の実験結果を基にして，フォノンドラッグの効果について考察を行った．その結果，フォノンドラッグに寄与するフォノンの平均自由行程が，キャリア濃度の増加に伴って減少することを見出した．また，ナノ構造材料に適用可能な新しい熱電特性評価方法として，ケルビンプローブフォース顕微鏡（KFM）を用いたゼーベック係数測定技術を確立し，極薄SOI膜の測定によりその有用性を実証した． |
| （英） | The enhancement of the thermoelectric performance has been expected by Si nanostrucutres. The Si Seebeck coefficient is strongly ruled by the influence of phonon drag, which, however, is not sufficiently understood yet. In the present study, we discussed on the contribution of phonon drag to the Seebeck coefficient in ultrathin Si-on-insulator (SOI) layer based on the experimental results of the relationship between the Seebeck coefficient and the carrier concentration. The mean free path of phonon drag which contributes to the Seebeck coefficient was found to decrease with increasing the carrier concentration. In addition, with the aim of measuring the Seebeck coefficient of nanometer-scale materials, we developed a novel technique using Kelvin-probe force microscopy (KFM). | |
| キーワード | （和） | ゼーベック係数 / 極薄SOI膜 / フォノンドラッグ / ケルビンプローブフォース顕微鏡 / / / / |
| （英） | Seebeck coefficient / ultrathin SOI layer / phonon drag / Kelvin-probe force microscopy / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 113, no. 450, SDM2013-152, pp. 31-35, 2014年2月. | |
| 資料番号 | SDM2013-152 | |
| 発行日 | 2014-02-20 (ED, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2013-137 SDM2013-152 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED SDM |
| 開催期間 | 2014-02-27 - 2014-02-28 |
| 開催地（和） | 北海道大学百年記念会館 |
| 開催地（英） | Hokkaido Univ. Centennial Hall |
| テーマ（和） | 機能ナノデバイスおよび関連技術 |
| テーマ（英） | Functional nanodevices and related technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2014-02-ED-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 極薄SOI膜のゼーベック係数制御とナノ構造熱電特性測定技術の構築 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Seebeck-coefficient control of ultrathin SOI layer and its novel characterization technique |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ゼーベック係数 / Seebeck coefficient |
| キーワード(2)（和/英） | 極薄SOI膜 / ultrathin SOI layer |
| キーワード(3)（和/英） | フォノンドラッグ / phonon drag |
| キーワード(4)（和/英） | ケルビンプローブフォース顕微鏡 / Kelvin-probe force microscopy |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池田 浩也 / Hiroya Ikeda / イケダ ヒロヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 悠平 / Yuhei Suzuki / スズキ ユウヘイ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三輪 一聡 / Kazutoshi Miwa / ミワ カズトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | ファイズ サレ / Faiz Salleh / ファイズ サレ |
| 第4著者 所属（和/英） | 静岡大学/日本学術振興会 (略称： 静岡大/学振) Shizuoka University/The Japan Society for the Promotion of Science (略称： Shizuoka Univ./JSPS) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-02-27 16:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | ED2013-137, SDM2013-152 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | no.449(ED), no.450(SDM) |
| ページ範囲 | pp.31-35 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2014-02-20 (ED, SDM) |
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