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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-04-11 10:30 O2混合Arスパッタにより室温成膜したSiO2膜の電気特性評価 井村公彦・○岡田竜弥・下田清治・杉原弘也・野口 隆（琉球大）  SDM2014-13 OME2014-13 |
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| 抄録 | （和） | フレキシブルディスプレイの作製において，良質の絶縁膜をプラスチックなどの低耐熱性基板上に形成することが求められる．本研究では，プラスチック基板への応用に向けて，ArおよびO2ガスを用いたRFスパッタにより室温で形成したSiO2膜の評価を行なった．結果，20%程度O2を添加したArガスにより成膜することで，絶縁耐圧6.9 MV/cm程度の良好な絶縁膜が得られることが分かり，プラスチック上TFTの絶縁膜として期待できる． |
| （英） | For a fabrication of flexible display, high quality gate insulator films on a thermally durable substrate such as plastics are required. In this work, we deposited SiO2 films at room temperature by RF sputtering with a gas mixture of O2 and Ar. Deposited SiO2 films with ~20% O2 had good breakdown voltage as high as 6.9 MV/cm. The SiO2 films have a potential to realize high quality gate insulator for TFTs on plastics. | |
| キーワード | （和） | ゲート絶縁膜 / 薄膜トランジスタ / SiO2 / RFスパッタ / / / / |
| （英） | Gate Insulator / Thin Film Transistor / SiO2 / RF Sputtering / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 1, SDM2014-13, pp. 55-57, 2014年4月. | |
| 資料番号 | SDM2014-13 | |
| 発行日 | 2014-04-03 (SDM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2014-13 OME2014-13 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM OME |
| 開催期間 | 2014-04-10 - 2014-04-11 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawa-Ken-Seinen-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般 |
| テーマ（英） | Advanced Thin-Film Devices (Si, Compound, Organic) and Related Topics |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2014-04-SDM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | O2混合Arスパッタにより室温成膜したSiO2膜の電気特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Electrical Characterization of SiO2 Films Deposited by RF Sputtering Using O2/Ar Mixture |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ゲート絶縁膜 / Gate Insulator |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜トランジスタ / Thin Film Transistor |
| キーワード(3)（和/英） | SiO2 / SiO2 |
| キーワード(4)（和/英） | RFスパッタ / RF Sputtering |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井村 公彦 / Kimihiko Imura / イムラ キミヒコ |
| 第1著者 所属（和/英） | 琉球大学 (略称： 琉球大) University of the Ryukyus (略称： Univ. of Ryukyus) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 竜弥 / Tatsuya Okada / オカダ タツヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 琉球大学 (略称： 琉球大) University of the Ryukyus (略称： Univ. of Ryukyus) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 下田 清治 / Kiyoharu Shimoda / シモダ キヨハル |
| 第3著者 所属（和/英） | 琉球大学 (略称： 琉球大) University of the Ryukyus (略称： Univ. of Ryukyus) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 杉原 弘也 / Kouya Sugihara / スギハラ コウヤ |
| 第4著者 所属（和/英） | 琉球大学 (略称： 琉球大) University of the Ryukyus (略称： Univ. of Ryukyus) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 琉球大学 (略称： 琉球大) University of the Ryukyus (略称： Univ. of Ryukyus) |
| 講演者 | 第2著者 |
| 発表日時 | 2014-04-11 10:30:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2014-13, OME2014-13 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.1(SDM), no.2(OME) |
| ページ範囲 | pp.55-57 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2014-04-03 (SDM, OME) |
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