| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-04-18 09:50 プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化ハフニウム成膜 ○鹿又健作・大場尚志・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・平原和弘・廣瀬文彦（山形大）  ED2014-13 |
|
| 抄録 | （和） | 我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起水蒸気を用いたハフニウム酸化膜の室温原子層堆積法を開発した。プラズマ励起水蒸気は酸化ハフニウム表面に吸着したTEMAHを効果的に酸化すると同時にTEMAHの吸着サイトとなるOH基を室温で成長表面上に形成する。本方法では、ハフニウム酸化膜の成長速度は室温において0.26 nm/cycleと測定された。またハフニウム酸化膜の室温原子層堆積における反応素過程を多重内部反射赤外吸収分光法(MIR-IRAS)によって評価し、ハフニウム酸化膜の室温原子層堆積プロセスの設計のために有用な知見が得られたので報告する。 |
| （英） | Room-temperature atomic layer deposition (ALD) of hafnium dioxide is developed using tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH) and plasma-excited water vapor generated from a remote plasma source. The plasma-excited water vapor is effective in oxidizing the TEMAH-adsorbed HfO2 surface while leaving OH sites on the growing surface at room temperature for further TEMAH adsorption. The growth rate is measured to be 0.26 nm/cycle at room temperature. The TEMAH adsorption and its oxidation on HfO2 were investigated by multiple-internal-refraction infrared absorption spectroscopy (MIR-IRAS). We report adsorption and desorption data in order to design HfO2-ALD at room temperature. | |
| キーワード | （和） | 原子層堆積 / テトラエチルメチルアミノハフニウム / プラズマ励起水蒸気 / 赤外吸収分光法 / / / / |
| （英） | ALD / TEMAH / Plasma-excited H2O / MIR-IRAS / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 12, ED2014-13, pp. 51-54, 2014年4月. | |
| 資料番号 | ED2014-13 | |
| 発行日 | 2014-04-10 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2014-13 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2014-04-17 - 2014-04-18 |
| 開催地（和） | 山形大学工学部百周年記念会館 |
| 開催地（英） | The 100th Anniversary Hall, Yamagata University |
| テーマ（和） | 有機デバイス・酸化物デバイス・一般 |
| テーマ（英） | Organic Devices, Oxide Devices, and others |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2014-04-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化ハフニウム成膜 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of hafnium oxide using room-temperature atomic layer deposition |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積 / ALD |
| キーワード(2)（和/英） | テトラエチルメチルアミノハフニウム / TEMAH |
| キーワード(3)（和/英） | プラズマ励起水蒸気 / Plasma-excited H2O |
| キーワード(4)（和/英） | 赤外吸収分光法 / MIR-IRAS |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata / カノマタ ケンサク |
| 第1著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大場 尚志 / Hisashi Ohba / オオバ ヒサシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashil Ahmmad Arima / アリマ ボシール アハンマド |
| 第3著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 久保田 繁 / Shigeru Kubota / クボタ シゲル |
| 第4著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平原 和弘 / Kazuhiro Hirahara / ヒラハラ カズヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
| 第6著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-04-18 09:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2014-13 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.12 |
| ページ範囲 | pp.51-54 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2014-04-10 (ED) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]