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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-06-26 14:30 シリコン基板上の高周波平面線路におけるマイクロ波の光制御特性 ○杉村祐一・有吉誠一郎・ベイ ジョンソク（名工大）  MW2014-50 |
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| 抄録 | （和） | 我々は、高出力ミリ波発生法の一つとして、ドップラー効果を用いた周波数変換法の研究を進めている。この方式は、半導体基板上の平面線路を伝搬するマイクロ波を、高速移動する光励起電子－正孔プラズマ境界で反射させ周波数増倍を行うものである。今回、高抵抗シリコン基板上に製作されたコプレーナ・ストリップ線路と波長532nmのNd:YAGレーザーを半導体プラズマ励起用光源として用い、マイクロ波のプラズマ密度に依存した反射特性を、理論および実験的に詳細に調べたのでその結果について報告する。 |
| （英） | As one of high-power millimeter-wave generation techniques、 we are studying a frequency up-conversion from microwaves using the Doppler effect. Microwaves in a planar transmission line on a semiconductor substrate are reflected at moving boundary of optically excited electron-hole plasma and are converted to millimeter waves. Reflection characteristics of microwaves depending on plasma densities for a coplanar strip line on a high resistivity silicon substrate illuminated by a 532nm Nd:YAG laser beam have been invested theoretically and experimentally. These results are reported. | |
| キーワード | （和） | ドップラー効果 / 周波数変換 / コプレーナ・ストリップ線路 / 光励起プラズマ / / / / |
| （英） | Doppler effect / Frequency conversion / Coplanar Strips line / Optical excitation plasma / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 111, MW2014-50, pp. 45-50, 2014年6月. | |
| 資料番号 | MW2014-50 | |
| 発行日 | 2014-06-19 (MW) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MW2014-50 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MW |
| 開催期間 | 2014-06-26 - 2014-06-26 |
| 開催地（和） | 豊橋技科大 |
| 開催地（英） | Toyohashi Univ. of Tech. |
| テーマ（和） | マイクロ波信号発生計測技術／一般 |
| テーマ（英） | Microwave Signal Generation and Measurement / Microwave Technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MW |
| 会議コード | 2014-06-MW |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | シリコン基板上の高周波平面線路におけるマイクロ波の光制御特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Optical control of microwaves in planar transmission lines on a silicon substrate |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ドップラー効果 / Doppler effect |
| キーワード(2)（和/英） | 周波数変換 / Frequency conversion |
| キーワード(3)（和/英） | コプレーナ・ストリップ線路 / Coplanar Strips line |
| キーワード(4)（和/英） | 光励起プラズマ / Optical excitation plasma |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 杉村 祐一 / Yuichi Sugimura / スギムラ ユウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 有吉 誠一郎 / Seiichiro Ariyoshi / アリヨシ セイイチロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | ベイ ジョンソク / Jongsuck Bae / ベイ ジョンソク |
| 第3著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-06-26 14:30:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | MW |
| 資料番号 | MW2014-50 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.111 |
| ページ範囲 | pp.45-50 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2014-06-19 (MW) |
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