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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-07-17 13:25 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化 ○萩原弘規・ヴォダルツ ジギー・大谷智博・西家大貴（早大）・Giovanni Zangari（ヴァージニア大）・本間敬之（早大）  MR2014-9 |
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| 抄録 | （和） | 我々は，電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を組み合わせ，次世代型の磁気記録媒体として期待されるビットパターンドメディア(BPM)の形成を検討している．本検討では，hcp-Co80-Pt20及びL10-Fe-Ptをhcp-Ru(002) / Si基板上に形成し，特性評価を行った．ネガ型電子線レジストを用いた微細パターン形成及びCo-Ptの電析では1 Tb/in2に相当する25 nm周期のCo-Ptナノドットアレイの形成を確認した．Co-Ptナノドットアレイの初期析出過程の解析では，核発生を抑制して核成長を促進するために電析中に電位を変化させた結果，析出初期に発生したCo-Pt核の粒径の増大が確認され，1ドットが1粒子からなるBPMの形成に向けて有用な知見を得た．Fe-Pt系材料の高保磁力化においては，パルス電析を用いてFeリッチ層とPtリッチ層を積層させ，アニーリング時のL10-Fe-Pt規則構造への相転移の促進を検討した．その結果，650 ℃でのアニーリングにより13.4 kOe，500 ℃でのアニーリングにより10.0 kOeの保磁力が確認された．UV-ナノインプリント法により形成したナノドットパターンにパルス電析を用いてFe-Ptの充填を行った結果，Fe-Ptナノドットアレイの均一な形成が確認された． |
| （英） | We have attempted to fabricate ferromagnetic nanodot arrays for bit patterned media (BPM) by using electrochemical processes and lithography techniques. In this study, we fabricated hcp-Co80Pt20 and L10-FePt thin films and nanodot arrays onto hcp-Ru (002) / Si substrate and analyzed them. By using electron beam lithography with negative-type resist, electrodeposited Co-Pt nanodot arrays with 10 nm diameter and 25 nm pitch were uniformly fabricated. For controlling the initial deposition process, applied potential was changed during electrodeposition to surpress nucleation and promoting growth. As a result, the grain size was increased compared with the initial stage of the nucleation. The Fe-rich and Pt-rich multilayers were fabricated by pulse electrodeposition to enhance the phase transformation from fcc-Fe-Pt to L10 Fe-Pt. By annealing at 650 oC and 500 oC, the phase transformation from fcc-Fe-Pt to L10 Fe-Pt was observed and Fe-Pt films with perpendicular coercivity of 13.4 kOe and 10.0 kOe. In addition, Fe-Pt nanodot arrays were successfully fabricated into the patterns formed using UV-nanoimprint lithography with such pulse electrodeposition. | |
| キーワード | （和） | BPM / 電解析出法 / Co-Pt / Fe-Pt / 電子線描画法 / UV-ナノインプリント法 / / |
| （英） | BPM / Electrodeposition / Co-Pt / Fe-Pt / Electron Beam Lithography / UV-Nanoimprint Lithography / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, 2014年7月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2014-07-10 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2014-9 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2014-07-17 - 2014-07-17 |
| 開催地（和） | 東京工業大学 |
| 開催地（英） | Tokyo Institute of Technology |
| テーマ（和） | 固体メモリ・媒体，一般 |
| テーマ（英） | Solid State Memory, Media, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2014-07-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of ultra-high density nanodot arrays with high coercivity based on analysis of initial deposition process |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | BPM / BPM |
| キーワード(2)（和/英） | 電解析出法 / Electrodeposition |
| キーワード(3)（和/英） | Co-Pt / Co-Pt |
| キーワード(4)（和/英） | Fe-Pt / Fe-Pt |
| キーワード(5)（和/英） | 電子線描画法 / Electron Beam Lithography |
| キーワード(6)（和/英） | UV-ナノインプリント法 / UV-Nanoimprint Lithography |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 萩原 弘規 / Hiroki Hagiwara / ハギワラ ヒロキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | ヴォダルツ ジギー / Siggi Wodarz / ヴォダルツ ジギー |
| 第2著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大谷 智博 / Tomohiro Otani / オオタニ トモヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西家 大貴 / Daiki Nishiie / ニシイエ ダイキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | Giovanni Zangari / Giovanni Zangari / |
| 第5著者 所属（和/英） | ヴァージニア大学 (略称： ヴァージニア大) University of Virginia (略称： UVA) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本間 敬之 / Takayuki Homma / ホンマ タカユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-07-17 13:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2014-9 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.140 |
| ページ範囲 | pp.7-10 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2014-07-10 (MR) |
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