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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2014-10-16 16:30 ［招待講演］イメージセンサーデバイスにおけるイオン注入 ○川崎洋司・布施玄秀・佐野 信・大賀絵美・小池正純・渡邉一浩・杉谷道朗（SEN）  SDM2014-88 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2014-88 |
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| 抄録 | （和） | CMOSイメージセンサのためのイオン注入の方向性を議論した。要求されるより深い分布に対して、安定性の観点からビーム方向、結晶軸のゆらぎを実証した。イメージセンサで特に問題となる注入欠陥と金属汚染の影響に関して、前者にはビームの密度に依存することを示し、後者には各種ビームライン対策と静電フィルターの有効性と中性化のための高周波(RF)型電子シャワー装置が有効であることを提案した。 |
| （英） | Some trends of the implantation processing in device fabrication of CMOS image sensors are discussed. Firstly, the variations in beam direction and crystal axis are verified for repeatable dopant profile in ultra-high energy implantation. It is also demonstrated that crystal damage is dependent on the charge density in ion beam. Finally it is suggested that it is effective to utilize additional electrical energy filter and RF-PFG for significant reduction of metal contamination. | |
| キーワード | （和） | フォトダイオード / 高エネルギー注入 / 多段注入 / チャネリング / 角度精度 / フォトレジスト / ビーム走査 / 金属汚染 |
| （英） | photodiode / high energy implantation / chaining implantation / channeling / angle accuracy, / photoresist / beam scan / metal contamination | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 114, no. 255, SDM2014-88, pp. 23-30, 2014年10月. | |
| 資料番号 | SDM2014-88 | |
| 発行日 | 2014-10-09 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2014-88 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2014-88 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2014-10-16 - 2014-10-17 |
| 開催地（和） | 東北大学未来研 |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2014-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | イメージセンサーデバイスにおけるイオン注入 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Ion Implantation Technologies for Image Sensing Devices |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | フォトダイオード / photodiode |
| キーワード(2)（和/英） | 高エネルギー注入 / high energy implantation |
| キーワード(3)（和/英） | 多段注入 / chaining implantation |
| キーワード(4)（和/英） | チャネリング / channeling |
| キーワード(5)（和/英） | 角度精度 / angle accuracy, |
| キーワード(6)（和/英） | フォトレジスト / photoresist |
| キーワード(7)（和/英） | ビーム走査 / beam scan |
| キーワード(8)（和/英） | 金属汚染 / metal contamination |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川崎 洋司 / Yoji Kawasaki / カワサキ ヨウジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 布施 玄秀 / Genshu Fuse / フセ ゲンシュウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐野 信 / Makoto Sano / サノ マコト |
| 第3著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大賀 絵美 / Emi Ooga / オオガ エミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小池 正純 / Masazumi Koike / コイケ マサズミ |
| 第5著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡邉 一浩 / Kazuhiro Watanabe / ワタナベ カズヒロ |
| 第6著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 杉谷 道朗 / Michiro Sugitani / スギタニ ミチロウ |
| 第7著者 所属（和/英） | 株式会社SEN (略称： SEN) SEN Corporation (略称： SEN Corp.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2014-10-16 16:30:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2014-88 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | no.255 |
| ページ範囲 | pp.23-30 |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | 2014-10-09 (SDM) |
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