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講演抄録/キーワード
講演名 2014-11-25 16:10
急速加熱処理による合成鉄白金ナノ粒子配列膜の規則化過程
相川健一郎藤平誉樹蜂巣琢磨杉山敦史逢坂哲彌早大)・山根 明坂脇 彰茂 智雄昭和電工MR2014-27
抄録 (和) 我々は,予め化学合成した数ナノメートル径の鉄白金(FePt)ナノ粒子を用いたビットパターンメディア向けの記録層作製プロセスの確立を目指してきた.
塗布成膜の改善により粒子配列層の作製を達成してきたが,L10 規則化相転移のための高温熱処理によって引き起こされるFePtナノ粒子の焼結の改善が課題であった.
そこで本検討では,急速加熱(rapid thermal annealing; RTA)による単一L10相の成長制御に着目し,孤立粒子中における規則度向上を図った.
さらに,記録再生特性試験の実施に向けて,焼結低減と固定保護のために非磁性材料を成膜し,熱処理後の規則度と磁気特性評価,および,ヘッド信頼性試験を実施した.
その結果,現行磁気ヘッドで読み書き可能な保磁力を有するFePtナノ粒子磁性層を塗布成膜により作製できることを確認した. 
(英) We study improvement of FePt nanoparticles arrangement process to develop bit patterned media (BPM) using chemical synthesized FePt nanoparticles whose size is about 4 nm.
However, heterogeneous of nanoparticles array by aggregation of nanoparticles and sufficiency of ordering percentage in FePt nanoparticles were also found when FePt nanoparticles were annealed to cause L10 ordering.
To deal with the problem, this study examined the effects of rapid thermal annealing (RTA) conditions.
In addition, we demonstrated chemical synthesized FePt nanoparticles which are isolated physically films on Si substrate by coating non magnetic layer.
キーワード (和) L10規則化 / 合成鉄白金ナノ粒子 / 塗布成膜 / 急速加熱 / / / /  
(英) L10-ordering / chemical synthesized FePt nanoparticles / coating / rapid thermal annealing / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 114, 2014年11月.
資料番号  
発行日 2014-11-18 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MR2014-27

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2014-11-25 - 2014-11-25 
開催地(和) 早稲田大学 
開催地(英) Waseda Univ. 
テーマ(和) 磁気記録, 一般 
テーマ(英) Magnetic recording, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2014-11-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 急速加熱処理による合成鉄白金ナノ粒子配列膜の規則化過程 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) L10 ordering of chemical synthesized FePt nanoparticles array film by rapid thermal annealing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) L10規則化 / L10-ordering  
キーワード(2)(和/英) 合成鉄白金ナノ粒子 / chemical synthesized FePt nanoparticles  
キーワード(3)(和/英) 塗布成膜 / coating  
キーワード(4)(和/英) 急速加熱 / rapid thermal annealing  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 相川 健一郎 / Kenichiro Aikawa / アイカワ ケンイチロオ
第1著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤平 誉樹 / Yoshiki Fujihira / フジヒラ ヨシキ
第2著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 蜂巣 琢磨 / Takuma Hachisu / ハチス タクマ
第3著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 敦史 / Atsushi Sugiyama / スギヤマ アツシ
第4著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 逢坂 哲彌 / Tetsuya Osaka / オオサカ テツヤ
第5著者 所属(和/英) 早稲田大学 (略称: 早大)
Waseda University (略称: Waseda Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 山根 明 / Akira Yamane / ヤマネ アキラ
第6著者 所属(和/英) 昭和電工株式会社 (略称: 昭和電工)
Showa Denko K.K. (略称: Showa Denko K.K.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 坂脇 彰 / Akira Sakawaki / サカワキ アキラ
第7著者 所属(和/英) 昭和電工株式会社 (略称: 昭和電工)
Showa Denko K.K. (略称: Showa Denko K.K.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 茂 智雄 / Tomoo Shige / シゲ トモオ
第8著者 所属(和/英) 昭和電工株式会社 (略称: 昭和電工)
Showa Denko K.K. (略称: Showa Denko K.K.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2014-11-25 16:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2014-27 
巻番号(vol) vol.114 
号番号(no) no.327 
ページ範囲 pp.23-28 
ページ数
発行日 2014-11-18 (MR) 


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