研究会情報 |
研究会 |
CPM |
開催期間 |
2015-08-10 - 2015-08-11 |
開催地(和) |
弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 |
開催地(英) |
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テーマ(和) |
電子部品・材料、一般(弘前大学電子情報工学科) |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2015-08-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
集積型光アイソレータのためのCe:YIG結晶薄膜形成法の検討 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Study of the Ce: YIG Thin Film Growth by Using Contact Epitaxy Method for Integrated Optical Isolator |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
野毛 悟 / Satoru Noge / ノゲ サトル |
第1著者 所属(和/英) |
沼津工業高等専門学校 (略称: 沼津高専)
National Institute of Technology, Numazu College (略称: NIT, Numazu College) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
清藤 将人 / Masato Seido / セイドウ マサト |
第2著者 所属(和/英) |
神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武田 正行 / Masayuki Takeda / タケダ マサユキ |
第3著者 所属(和/英) |
神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中津原 克己 / Katsumi Nakatsuhara / ナカツハラ カツミ |
第4著者 所属(和/英) |
神奈川工科大学 (略称: 神奈川工科大)
Kanagawa Institute of Technology (略称: KAIT) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 所属(和/英) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2015-08-11 10:20:00 |
発表時間 |
20分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
CPM2015-42 |
巻番号(vol) |
vol.115 |
号番号(no) |
no.179 |
ページ範囲 |
pp.57-60 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2015-08-03 (CPM) |