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講演抄録/キーワード
講演名 2015-10-14 13:05
反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造、電気及び光学特性
寺迫智昭愛媛大)・野本淳一牧野久雄高知工科大)・矢木正和香川高専)・白方 祥愛媛大)・山本哲也高知工科大CPM2015-76 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2015-76
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文献情報 信学技報, vol. 115, no. 250, CPM2015-76, pp. 1-4, 2015年10月.
資料番号 CPM2015-76 
発行日 2015-10-07 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2015-10-14 - 2015-10-14 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光記録技術・電子材料、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2015-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造、電気及び光学特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Structural, Electrical and Optical Properties of ZnO:Ga Films Grown by Reactive Plasma deposition with a DC Arc Discharge 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺迫 智昭 / Tomoaki Terasako / テラサコ トモアキ
第1著者 所属(和/英) 愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 野本 淳一 / Junichi Nomoto / ノモト ジュンイチ
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Technol)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 牧野 久雄 / Hisao Makino / マキノ ヒサオ
第3著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Technol)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 矢木 正和 / Masakazu Yagi / ヤギ マサカズ
第4著者 所属(和/英) 香川高等専門学校 (略称: 香川高専)
National Institute of Technology, Kagawa College (略称: Natl. Institute Technol., Kagawa Coll.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 白方 祥 / Sho Shirakata / シラカタ ショウ
第5著者 所属(和/英) 愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 哲也 / Tetsuya Yamamoto / ヤマモト テツヤ
第6著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi Univ. Technol)
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講演者 第1著者 
発表日時 2015-10-14 13:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2015-76 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.250 
ページ範囲 pp.1-4 
ページ数
発行日 2015-10-07 (CPM) 


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