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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2015-11-06 13:20 非真空プロセスによる銅ハライド透明薄膜の作製 ○田尾翔子・原田大雅・田中久仁彦（長岡技科大）・森谷克彦（鶴岡高専）  CPM2015-84 |
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| 抄録 | （和） | 非真空プロセスであるゾルゲル法により，バンドギャップ可変透明p型半導体として，CuBr1-xIx薄膜の作製を行った．CuBr1-xIxは，CuBrとホールの良導体であるCuIとの混晶である．組成比の変化に伴い，作製したCuBr1-xIx薄膜の格子定数ならびに励起子エネルギーが変化していることを確認した．これにより，非真空プロセスにおいて，任意の組成比でのCuBr1-xIx薄膜の作製，組成比によるバンドギャップの制御が可能であることが分かった． |
| （英） | CuBr1-xIx thin films were prepared as a variable band gap transparent p-type semiconductor, by a sol-gel method which is a non-vacuum process. CuBr1-xIx is a mixed crystal of CuI which is a good conductor of hall and CuBr. We confirmed the change in the lattice constant and the exciton energy of the CuBr1-xIx thin films with the change of composition ratio. Therefore, it was found that CuBr1-xIx thin films with any composition ratio can be prepared by a non-vacuum process, and the band gap can be controlled by the composition ratio. | |
| キーワード | （和） | 銅ハライド / ゾルゲル法 / CuI / CuBr / / / / |
| （英） | Copper halide / Sol-gel method / Copper iodide / Copper bromide / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 115, no. 297, CPM2015-84, pp. 5-8, 2015年11月. | |
| 資料番号 | CPM2015-84 | |
| 発行日 | 2015-10-30 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2015-84 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2015-11-06 - 2015-11-07 |
| 開催地（和） | まちなかキャンパス長岡 |
| 開催地（英） | Machinaka Campus Nagaoka |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料，一般 |
| テーマ（英） | Thin film processing, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2015-11-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 非真空プロセスによる銅ハライド透明薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of Cu halide transparent thin film by non-vacuum process |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 銅ハライド / Copper halide |
| キーワード(2)（和/英） | ゾルゲル法 / Sol-gel method |
| キーワード(3)（和/英） | CuI / Copper iodide |
| キーワード(4)（和/英） | CuBr / Copper bromide |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田尾 翔子 / Shoko Tao / タオ ショウコ |
| 第1著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ.Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 原田 大雅 / Taiga Harada / ハラダ タイガ |
| 第2著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ.Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 久仁彦 / Kunihiko Tanaka / タナカ クニヒコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ.Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森谷 克彦 / Katsuhiko Moriya / モリヤ カツヒコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 鶴岡工業高等専門学校 (略称： 鶴岡高専) National Institute of Technology, Tsuruoka College (略称： Tsuruoka College) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2015-11-06 13:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2015-84 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | no.297 |
| ページ範囲 | pp.5-8 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2015-10-30 (CPM) |
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