| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2015-12-14 11:30
超分子タンパク質を利用した超微細FETへのメモリ応用 ○番 貴彦・上沼睦典(奈良先端大)・右田真司(産総研)・石河泰明・山下一郎・浦岡行治(奈良先端大) EID2015-11 SDM2015-94 |
| 抄録 |
(和) |
チャネル長3.6 nmの超微細FET であるV溝型のJunction-less FET(JL-FET)に対し、そのV溝底部に選択的にナノ粒子を配置し、フローティングゲートメモリを作製した。配置した手法にはバイオナノプロセスと呼ばれる超分子タンパク質を用いた微細加工プロセスを利用している。作製された素子はId-Vg特性においてヒステリシスが発現し、メモリ動作を示した。また書き込み消去特性、エンデュランス特性、リテンション特性といった一般的に知られる各種メモリ特性を取得している。その特徴として低電圧、高速動作、高耐性を示した。これは現在発表されているフローティングゲートメモリの中でも特に微小な素子におけるメモリ特性であり、微細化が著しいメモリデバイスに対し、sub-10 nm以降のフローティングゲートメモリの可能性を示した。 |
| (英) |
Metal nanoparticles (NPs) embedded in junctionless field-effect transistors (JL-FETs) with a length of 3.6 nm is fabricated and demonstrated. The anisotropic wet etching of a silicon-on-insulator (SOI) substrate was utilized to form V-grooves and to define nanometer-scale channel. Metal NPs are selectively placed onto bottom of V-groove using the Baio nano process (BNP). The JL-FET is applied to floating gate memory and used to investigate an impact on the short channel by charge trap of NPs. Low-voltage operation and broad threshold voltage shift as memory behavior are appeared in 3.6 nm channel length. It is expected that the JL-FETs can overcome the scaling limitations in floating gate memory, while the charge trap cause major problems in the sub 10 nm region. |
| キーワード |
(和) |
バイオナノプロセス / Junctionless-FET / ナノ粒子 / メモリ / / / / |
| (英) |
Bio Nano Process / Junctionless-FET / Nano-particle / Memory / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 115, no. 362, EID2015-11, pp. 9-12, 2015年12月. |
| 資料番号 |
EID2015-11 |
| 発行日 |
2015-12-07 (EID, SDM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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