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講演抄録/キーワード
講演名 2016-03-01 14:45
高位合成デザインフローを用いたIPデザイン
立岡真人今西 健仲石英典豊山 武ソシオネクストVLD2015-126
抄録 (和) 本稿では、高位合成デザインフローを使ったデザインの設計事例を紹介する。高位合成手法を用いることで、従来のRTL手設計手法と比較し、短期に電力、面積、そしてスループットなどのパフォーマンスに関して品質の高いデザインを得ることができた。この結果を得るために用いたインターフェイス・ベースの設計、アーキテクチャ探索、配線混雑改善手法の3つの設計技術に関して事例を通して紹介する。 
(英) In this paper we will describe practical experiences about the use of high level synthesis technologies to achieve higher performance, higher quality, and lower power for IP designs as compared to traditional RTL design. We could achieve a time-to-market requirement and a better PPA compared to the hand RTL design IP. We will show how the introduction of three key techniques: interface-based design, architectural exploration and congestion-aware high level synthesis were utilized to achieve higher quality IP designs.
キーワード (和) 高位合成 / 配線混雑 / アーキテクチャ探索 / インターフェイス・ベース設計 / 検証 / / /  
(英) High Level Synthesis / Routing Congestion / architectural exploration / interface-based design / verification / / /  
文献情報 信学技報, vol. 115, no. 465, VLD2015-126, pp. 87-92, 2016年2月.
資料番号 VLD2015-126 
発行日 2016-02-22 (VLD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2015-126

研究会情報
研究会 VLD  
開催期間 2016-02-29 - 2016-03-02 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawa Seinen Kaikan 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2016-02-VLD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高位合成デザインフローを用いたIPデザイン 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) IP Design using High-Level Synthesis Design Flow 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 高位合成 / High Level Synthesis  
キーワード(2)(和/英) 配線混雑 / Routing Congestion  
キーワード(3)(和/英) アーキテクチャ探索 / architectural exploration  
キーワード(4)(和/英) インターフェイス・ベース設計 / interface-based design  
キーワード(5)(和/英) 検証 / verification  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 立岡 真人 / Masato Tatsuoka / タツオカ マサト
第1著者 所属(和/英) 株式会社ソシオネクスト (略称: ソシオネクスト)
Socionext Inc. (略称: SNI)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 今西 健 / Ken Imanishi / イマニシ ケン
第2著者 所属(和/英) 株式会社ソシオネクスト (略称: ソシオネクスト)
Socionext Inc. (略称: SNI)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 仲石 英典 / Hidenori Nakaishi / ナカイシ ヒデノリ
第3著者 所属(和/英) 株式会社ソシオネクスト (略称: ソシオネクスト)
Socionext Inc. (略称: SNI)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 豊山 武 / Takeshi Toyoyama / トヨヤマ タケシ
第4著者 所属(和/英) 株式会社ソシオネクスト (略称: ソシオネクスト)
Socionext Inc. (略称: SNI)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-03-01 14:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2015-126 
巻番号(vol) vol.115 
号番号(no) no.465 
ページ範囲 pp.87-92 
ページ数
発行日 2016-02-22 (VLD) 


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