講演抄録/キーワード |
講演名 |
2016-04-21 16:25
ナノ微粒子用原子層堆積装置の試作と評価 ○菊地 航・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシル アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大) ED2016-5 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2016-5 |
抄録 |
(和) |
粒子表面の改質として原子層堆積法(Atomic layer deposition : ALD)が注目されている。我々は、tetrakis(dimethylamino)titanium (TDMAT)とプラズマ励起水蒸気を用いて、ナノ微粒子表面に酸化チタン(TiO2)膜を室温形成する原子層堆積法を開発した。微粒子に対しALDを行うにあたり、粒子同士の凝集を防ぐ機構として撹拌板を反応室内に設置した。Si基板上で行った成膜実験では、完全酸化状態のTiO2の成膜が確認され、1サイクルあたりの成長膜厚は0.25 nm/cycleと測定された。100 nm金ナノ粒子を対象とした成膜実験では、本研究で開発した撹拌板による粒子の撹拌効果及び、ナノ粒子表面でのTiO2の成膜を確認した。 |
(英) |
Metal oxide modification on nanoparticles has attracted attention to achieve new surface functions on them. Room-temperature atomic layer deposition (ALD) of titanium dioxide (TiO2) on Au nanoparticles was developed using tetrakis(dimethylamino)titanium (TDMAT) and plasma-excited water vaper. To avoid the aggregation of nanoparticles during ALD, a rotating scraper as a mixer was was placed in the reaction chamber. Complete oxidation state of TiO2 formed on the Si substrate was confirmed. The growth rate was measured to be 0.25 nm/cycle at room temperature. TiO2 film formed by ALD was covered on the Au nanoparticles with a diameter of 100nm. |
キーワード |
(和) |
原子層堆積法 / ナノ粒子 / TiO2 / プラズマ励起水蒸気 / / / / |
(英) |
ALD / nanoparticle / TiO2 / Plasma-excited water vapor / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 116, no. 14, ED2016-5, pp. 17-20, 2016年4月. |
資料番号 |
ED2016-5 |
発行日 |
2016-04-14 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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