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講演抄録/キーワード
講演名 2016-06-17 14:30
YAlO3(001)基板上でのCr2O3薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析
橋本浩佑隅田貴士福井慎二郎平戸剛志柳原康宏永田知子山本 寛岩田展幸日大EMD2016-11 CPM2016-18 OME2016-21 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2016-11 CPM2016-18 OME2016-21
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文献情報 信学技報, vol. 116, no. 100, CPM2016-18, pp. 19-22, 2016年6月.
資料番号 CPM2016-18 
発行日 2016-06-10 (EMD, CPM, OME) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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研究会情報
研究会 EMD CPM OME  
開催期間 2016-06-17 - 2016-06-17 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 材料・デバイス サマーミーティング 
テーマ(英) Marterial・Device Summer Meeting 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2016-06-EMD-CPM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) YAlO3(001)基板上でのCr2O3薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Structure Analyses and Optimization of deposition conditionforCr2O3thin films grown on Surface Treated YAlO3(001) Substrates 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 橋本 浩佑 / Kousuke Hashimoto / ハシモト コウスケ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 隅田 貴士 / Takashi Sumida / スミダ タカシ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 福井 慎二郎 / Shinjirou Fukui / フクイ シンジロウ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 平戸 剛志 / Tuyoshi Hirato / ヒラト ツヨシ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳原 康宏 / Yasuhiro Yanagihara / ヤナギハラ ヤスヒロ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第6著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto / ヤマモト ヒロシ
第7著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第8著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2016-06-17 14:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 EMD2016-11, CPM2016-18, OME2016-21 
巻番号(vol) vol.116 
号番号(no) no.99(EMD), no.100(CPM), no.101(OME) 
ページ範囲 pp.19-22 
ページ数
発行日 2016-06-10 (EMD, CPM, OME) 


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