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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2016-06-29 15:05 タンタル酸ナノシート/SiO2/Si界面バンドオフセットにおけるUV照射の効果 ○速水脩平・豊田智史・福田勝利（京大）・菅谷英生（パナソニック）・森田将史・中田明良・内本喜晴・松原英一郎（京大）  SDM2016-42 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2016-42 |
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| 抄録 | （和） | ReRAMの材料設計を行う際の指針として、絶縁層とSi基板の界面バンドオフセットはリーク電流の抑制を考える上で重要なパラメータの一つである。しかしながら、分光学的アプローチにおいては成膜プロセスの違いやチャージングによるスペクトル変動の影響が大きく、高精度なバンドオフセット予測を行うのが困難であった。そこで我々は表面電荷反転XPS法を開発し、これを用いてUV照射の有無によりTaNS/Si界面バンドオフセットがどのように変動するのか調査した。その結果TaNS/SiO2界面ダイポールが変動し、2サイクル積層試料についてバンドオフセットが増大することがわかった。 |
| （英） | On the basis of material design for ReRAM, the interfacial band offset between insulators and Si substrate is one of the key parameters in terms of a decrease in leakage current. It has been, however, difficult in spectroscopic approach to predict and evaluate band offsets with high accuracy because of film deposition process and surface charging. We have developed a surface charge switched electron spectroscopy, and compared how the TaNS/Si interfacial band offset had changed with or without UV irradiation, which caused to increase the band offset of a bilayer sample following the divergence of TaNS/SiO2 interfacial dipoles. | |
| キーワード | （和） | 紫外線(UV)照射 / ナノシート / 光電子分光 / バンドオフセット / 界面ダイポール / / / |
| （英） | ultraviolet irradiation / nanosheet / photoelectron spectroscopy / band offset / interfacial dipole / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, no. 118, SDM2016-42, pp. 53-58, 2016年6月. | |
| 資料番号 | SDM2016-42 | |
| 発行日 | 2016-06-22 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2016-42 エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2016-42 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2016-06-29 - 2016-06-29 |
| 開催地（和） | キャンパス・イノベーションセンター東京 |
| 開催地（英） | Campus Innovation Center Tokyo |
| テーマ（和） | MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術 （応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催） |
| テーマ（英） | Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2016-06-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | タンタル酸ナノシート/SiO2/Si界面バンドオフセットにおけるUV照射の効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Effects of ultraviolet irradiation on the band offset of Tantalum nanosheets/SiO2/Si interfaces |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 紫外線(UV)照射 / ultraviolet irradiation |
| キーワード(2)（和/英） | ナノシート / nanosheet |
| キーワード(3)（和/英） | 光電子分光 / photoelectron spectroscopy |
| キーワード(4)（和/英） | バンドオフセット / band offset |
| キーワード(5)（和/英） | 界面ダイポール / interfacial dipole |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 速水 脩平 / Shuhei Hayami / ハヤミ シュウヘイ |
| 第1著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 豊田 智史 / Satoshi Toyoda / トヨダ サトシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福田 勝利 / Katsutoshi Fukuda / フクダ カツトシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菅谷 英生 / Hidetaka Sugaya / スガヤ ヒデタカ |
| 第4著者 所属（和/英） | パナソニック株式会社 (略称： パナソニック) Panasonic Cooperation (略称： Panasonic) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森田 将史 / Masahito Morita / モリタ マサヒト |
| 第5著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中田 明良 / Akiyoshi Nakata / ナカタ アキヨシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 内本 喜晴 / Yoshiharu Uchimoto / ウチモト ヨシハル |
| 第7著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松原 英一郎 / Eiichiro Matsubara / マツバラ エイイチロウ |
| 第8著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2016-06-29 15:05:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2016-42 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.118 |
| ページ範囲 | pp.53-58 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-06-22 (SDM) |
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