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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2016-10-21 11:10 領域分割を活用したSEM画像による照度差ステレオ ○松瀬博喜・上瀧 剛・内村圭一（熊本大）・宮本 敦（日立）  PRMU2016-100 |
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| 抄録 | （和） | 本稿は，走査型電子顕微鏡（SEM）を用いて半導体パターンの三次元形状を再構成することを目的とする．これまでに，SEM画像を用いた照度差ステレオによる半導体パターンの三次元計測手法がいくつか提案されてきたが，影による再構成形状の歪みが，再構性精度や手法の安定収束の妨げとなっていた．提案法では，処理画像を前景・背景・中間の3領域に分割し，前景領域は1領域としてまとめて計算，背景領域の高さは常に一定という制約を追加する．これにより，影による形状歪みの抑制と高精度な影補正を行う．実際の半導体パターンに対する提案法の適用結果を通して、提案法が安定した三次元再構成を行えることを示す． |
| （英） | In this paper, we present a three-dimensional (3D) reconstruction method for semiconductor pattern using a scanning electron microscope (SEM). 3D reconstruction method for semiconductor pattern using SEM images by photometric stereo has been proposed several, however they have a problem that reconstruction shape is distorted due to shadows. Our proposed method divides processing image into three regions: foreground, background and middle, and sets up geometrical constraints for each region. As a result, our method restrains the shape distortion by shadows and compensates the shadow accurately. Through the application result of our method for the actual semiconductor pattern, this method indicates that perform a stable 3D reconstruction. | |
| キーワード | （和） | 走査型電子顕微鏡（SEM） / 照度差ステレオ / 領域分割 / 影補正 / 半導体計測 / / / |
| （英） | Scanning Electron Microscope (SEM) / Photometric Stereo / Region Division / Shadowing Compensation / Semiconductor Measurement / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, no. 259, PRMU2016-100, pp. 55-60, 2016年10月. | |
| 資料番号 | PRMU2016-100 | |
| 発行日 | 2016-10-13 (PRMU) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | PRMU2016-100 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | PRMU |
| 開催期間 | 2016-10-20 - 2016-10-21 |
| 開催地（和） | 宮崎大学 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | オープンサイエンス～研究資源と研究体制のオープン化～ |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | PRMU |
| 会議コード | 2016-10-PRMU |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 領域分割を活用したSEM画像による照度差ステレオ |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Photometric Stereo by SEM Image Utilizing Region Division |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 走査型電子顕微鏡（SEM） / Scanning Electron Microscope (SEM) |
| キーワード(2)（和/英） | 照度差ステレオ / Photometric Stereo |
| キーワード(3)（和/英） | 領域分割 / Region Division |
| キーワード(4)（和/英） | 影補正 / Shadowing Compensation |
| キーワード(5)（和/英） | 半導体計測 / Semiconductor Measurement |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松瀬 博喜 / Hiroki Matsuse / マツセ ヒロキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上瀧 剛 / Gou Koutaki / コウタキ ゴウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 内村 圭一 / Keiichi Uchimura / ウチムラ ケイイチ |
| 第3著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮本 敦 / Atsushi Miyamoto / ミヤモト アツシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 日立製作所 (略称： 日立) Hitachi Ltd. (略称： Hitachi) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2016-10-21 11:10:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | PRMU |
| 資料番号 | PRMU2016-100 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.259 |
| ページ範囲 | pp.55-60 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-10-13 (PRMU) |
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