| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2016-10-26 11:00
電界誘起酸素エッチングによるナノ突起エミッタの形成過程の検証 ○若本 実・永井滋一・岩田達夫・梶原和夫・畑 浩一(三重大) ED2016-54 |
| 抄録 |
(和) |
集束イオンビーム装置に搭載されている液体金属イオン源は、照射イオンによる試料汚染と色収差によるビーム径の拡がりの問題を持っており、それらの問題を持たない電界電離型希ガスイオン源(GFIS)がイオン源として期待されている。当研究グループは、GFISの放射角電流密度向上のため、電界誘起酸素エッチング法を改良することで、先端にナノ突起をもつ理想形状エミッタの作製に成功した。本発表では、電界誘起酸素エッチングによるナノ突起形成における形状、および生成される酸化物組成を電界イオン顕微鏡法、透過型電子顕微鏡、およびアトムプローブ法によって調査した。その結果、これまでに我々が提唱してきたオーバーハングモデルを支持する結果が示された。 |
| (英) |
Focused ion beam systems equipped with liquid metal ion source has serious problems which are pollutions of samples due to irradiated ions and a broadening of spot size of ion beams due to chromatic aberration. In order to overcome these problems, gas field ion sources (GFIS) with narrow energy distributions are required. We succeeded to prepared a nano-protrusion on a tungsten emitter with large-radius by the modified field-induced oxygen etching to obtain a higher angular current density dI/dΩ. In this study, we investigated the emitter shape and identified oxide during the oxygen etching by field ion microscopy, transmission electron microscopy and atom probe. These results suppose the overhang model we proposed. |
| キーワード |
(和) |
電界イオン顕微鏡 / 電界誘起酸素エッチング / アトムプローブ法 / / / / / |
| (英) |
field ion microscope / field-induced oxygen etching / atom probe analysis / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 116, no. 268, ED2016-54, pp. 51-56, 2016年10月. |
| 資料番号 |
ED2016-54 |
| 発行日 |
2016-10-18 (ED) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
ED2016-54 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
ED |
| 開催期間 |
2016-10-25 - 2016-10-26 |
| 開催地(和) |
三重大学 新産業創成研究拠点(旧VBL) |
| 開催地(英) |
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| テーマ(和) |
電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 |
| テーマ(英) |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ED |
| 会議コード |
2016-10-ED |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
電界誘起酸素エッチングによるナノ突起エミッタの形成過程の検証 |
| サブタイトル(和) |
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| タイトル(英) |
A verification of formation process of emitters with nano-protrusion fabricated by the field-induced oxygen etching |
| サブタイトル(英) |
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| キーワード(1)(和/英) |
電界イオン顕微鏡 / field ion microscope |
| キーワード(2)(和/英) |
電界誘起酸素エッチング / field-induced oxygen etching |
| キーワード(3)(和/英) |
アトムプローブ法 / atom probe analysis |
| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
若本 実 / Minoru Wakamoto / ワカモト ミノル |
| 第1著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: MIe Univ.) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
永井 滋一 / Shigekazu Nagai / ナガイ シゲカズ |
| 第2著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: MIe Univ.) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岩田 達夫 / Tatsuo Iwata / イワタ タツオ |
| 第3著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: MIe Univ.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
梶原 和夫 / Kazuo Kajiwara / カジワラ カズオ |
| 第4著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: MIe Univ.) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
畑 浩一 / Koichi Hata / ハタ コウイチ |
| 第5著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: MIe Univ.) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2016-10-26 11:00:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
ED |
| 資料番号 |
ED2016-54 |
| 巻番号(vol) |
vol.116 |
| 号番号(no) |
no.268 |
| ページ範囲 |
pp.51-56 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2016-10-18 (ED) |