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講演抄録/キーワード
講演名
2016-10-26 14:50
高濃度ドーピングされた(100)方位SOIウェーハに対するSi選択エピタキシャル成長後の平坦な表面形成技術
○
古川貴一
・
寺本章伸
・
黒田理人
・
諏訪智之
・
橋本圭市
・
須川成利
(
東北大
)・
鈴木大介
・
千葉洋一郎
・
石井勝利
・
清水 亮
・
長谷部一秀
(
東京エレクトロン東北
)
SDM2016-70
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2016-70
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
/ / / / / / /
(英)
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文献情報
信学技報, vol. 116, no. 270, SDM2016-70, pp. 9-14, 2016年10月.
資料番号
SDM2016-70
発行日
2016-10-19 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
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SDM2016-70
エレソ技報アーカイブへのリンク:
SDM2016-70
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2016-10-26 - 2016-10-27
開催地(和)
東北大学未来研
開催地(英)
Niche, Tohoku Univ.
テーマ(和)
プロセス科学と新プロセス技術
テーマ(英)
Process Science and New Process Technology
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2016-10-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
高濃度ドーピングされた(100)方位SOIウェーハに対するSi選択エピタキシャル成長後の平坦な表面形成技術
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Formation technology of Flat Surface after Selective Epitaxial Growth on Ion-Implanted (100) Oriented Thin SOI Wafers
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
/
キーワード(2)(和/英)
/
キーワード(3)(和/英)
/
キーワード(4)(和/英)
/
キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
古川 貴一
/
Kiichi Furukawa
/
フルカワ キイチ
第1著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
寺本 章伸
/
Akinobu Teramoto
/
テラモト アキノブ
第2著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
黒田 理人
/
Rihito Kuroda
/
クロダ リヒト
第3著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
諏訪 智之
/
Tomoyuki Suwa
/
スワ トモユキ
第4著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
橋本 圭市
/
Keiichi Hashimoto
/
ケイイチ ハシモト
第5著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
須川 成利
/
Shigetoshi Sugawa
/
スガワ シゲトシ
第6著者 所属(和/英)
東北大学
(略称:
東北大
)
Tohoku University
(略称:
Tohoku Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
鈴木 大介
/
Daisuke Suzuki
/
スズキ ダイスケ
第7著者 所属(和/英)
東京エレクトロン東北株式会社
(略称:
東京エレクトロン東北
)
Tokyo Electron Tohoku Limited Yamanashi Regional Office
(略称:
Tokyo Electron Tohoku
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
千葉 洋一郎
/
Yoichiro Chiba
/
チバ ヨウイチロウ
第8著者 所属(和/英)
東京エレクトロン東北株式会社
(略称:
東京エレクトロン東北
)
Tokyo Electron Tohoku Limited Yamanashi Regional Office
(略称:
Tokyo Electron Tohoku
)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
石井 勝利
/
Katsutoshi Ishii
/
イシイ カツトシ
第9著者 所属(和/英)
東京エレクトロン東北株式会社
(略称:
東京エレクトロン東北
)
Tokyo Electron Tohoku Limited Yamanashi Regional Office
(略称:
Tokyo Electron Tohoku
)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
清水 亮
/
Akira Shimizu
/
アキラ シミズ
第10著者 所属(和/英)
東京エレクトロン東北株式会社
(略称:
東京エレクトロン東北
)
Tokyo Electron Tohoku Limited Yamanashi Regional Office
(略称:
Tokyo Electron Tohoku
)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
長谷部 一秀
/
Kazuhide Hasebe
/
ハセベ カズヒデ
第11著者 所属(和/英)
東京エレクトロン東北株式会社
(略称:
東京エレクトロン東北
)
Tokyo Electron Tohoku Limited Yamanashi Regional Office
(略称:
Tokyo Electron Tohoku
)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2016-10-26 14:50:00
発表時間
25分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2016-70
巻番号(vol)
vol.116
号番号(no)
no.270
ページ範囲
pp.9-14
ページ数
6
発行日
2016-10-19 (SDM)
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