| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2016-11-19 11:15
Microwaveを用いた溶液成長法によるZnO薄膜堆積 ○吉谷地優聴・高野 泰(静岡大) CPM2016-72 |
| 抄録 |
(和) |
溶液成長法によりZnO薄膜を堆積させた。基板の処理や反応溶液の加熱にMicrowaveを用いて堆積させたZnO薄膜と、Microwaveを用いずにオイルバスで堆積させたZnO薄膜との比較をした。走査電子顕微鏡により、堆積条件を変えることで薄膜の表面モホロジーに違いが現れることが分かった。また、XRD測定により結晶の配向にも違いがみられた。 |
| (英) |
Zinc oxide (ZnO) film has been deposited using chemical bath deposition (CBD).We compared ZnO fims deposited by microwave heating of the substrate and reaction mixture with ZnO films deposited using oil bath srirrer. The thin films were investigated by secondary electoron microscopy, SEM and x-ray diffraction, XRD measurement. We obtained ZnO thin films which have various morphology by using microwave. |
| キーワード |
(和) |
ZnO / 溶液成長法(CBD) / II-VI族化合物 / Microwave / / / / |
| (英) |
zinc oxide / chemical bath deposition / II-VI compound semiconductor / Microwave / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 116, no. 311, CPM2016-72, pp. 55-58, 2016年11月. |
| 資料番号 |
CPM2016-72 |
| 発行日 |
2016-11-11 (CPM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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