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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2016-12-09 10:30 Co/Pt原子層積層スパッタ堆積による傾斜異方性膜の作製 ○本多直樹（東北工大）・日向慎太朗・齊藤 伸（東北大）  MR2016-38 |
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| 抄録 | （和） | ビットパターン媒体用の弱傾斜磁気異方性膜の作製を検討した．初めに高Ms高垂直磁気異方性を持つCo/Pt積層膜の室温作製を検討した．CoとPtの同時スパッタリングで，基板ホルダー回転によりfcc (111)配向したCo/Pt積層膜が得られた．高Ar圧力堆積，かつCoとPt層を2~3原子層相当膜厚で積層することで，Msが500 emu/cm3以上，実効垂直Hkが20 kOe以上の膜が得られた．60˚傾斜コリメータスパッタ堆積によりこの積層膜を作製したところ，結晶配向軸の傾斜が6˚ほど，垂直抗磁力が5 kOeほどの膜が得られた．トルク測定で傾斜角が8˚ほどであることが確認できた．まだ異方性の値は垂直膜に比べて1/3ほどと小さいが，高密度記録用傾斜異方性膜の作製が可能と期待される． |
| （英） | Deposition of weakly inclined anisotropy film for bit-patterned media was studied. First, deposition of Co/Pt layer stacking film with high perpendicular anisotropy and saturation magnetization was investigated by room temperature co-sputtering of Co and Pt with rotating substrate holder. A film with a high perpendicular anisotropy of 1×107 erg/cm3 and saturation magnetization of 600 emu/cm3 was obtained when a high deposition Ar pressure of 4.8 Pa and 3 mono-layer stacking of Co and 2 mono-layer stacking of Pt were adopted. The obtained Co/Pt film was applied to deposit inclined anisotropy film using tilted collimator sputtering. Inclination of anisotropy axis of around 8˚ with a high perpendicular coercivity of around 5 kOe was obtained. The result suggested possibility to make a bit-patterned media for high recording densities. | |
| キーワード | （和） | Co/Pt積層膜 / 基板ホルダー回転スパッタ堆積 / 高Ar圧力作製 / 積層膜厚依存性 / 高磁気異方性膜 / 傾斜磁気異方性膜 / / |
| （英） | Co/Pt layer stacking film / Sputter-deposition with rotating substrate holder / High Ar pressure deposition / Stacking layer thickness dependence / High magnetic anisotropy film / Inclined anisotropy film / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 116, 2016年12月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2016-12-01 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2016-38 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2016-12-08 - 2016-12-09 |
| 開催地（和） | 愛媛大学 |
| 開催地（英） | Ehime Univ. |
| テーマ（和） | 信号処理，一般 |
| テーマ（英） | Signal Processing, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2016-12-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Co/Pt原子層積層スパッタ堆積による傾斜異方性膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Sputter-deposition of inclined anisotropy film with Co/Pt atomic layer stacking |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Co/Pt積層膜 / Co/Pt layer stacking film |
| キーワード(2)（和/英） | 基板ホルダー回転スパッタ堆積 / Sputter-deposition with rotating substrate holder |
| キーワード(3)（和/英） | 高Ar圧力作製 / High Ar pressure deposition |
| キーワード(4)（和/英） | 積層膜厚依存性 / Stacking layer thickness dependence |
| キーワード(5)（和/英） | 高磁気異方性膜 / High magnetic anisotropy film |
| キーワード(6)（和/英） | 傾斜磁気異方性膜 / Inclined anisotropy film |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本多 直樹 / Naoki Honda / ホンダ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東北工業大学 (略称： 東北工大) Tohoku Institute of Technology (略称： Tohoku Inst. Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 日向 慎太朗 / Shintaro Hinata / ヒナタ シンタロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齊藤 伸 / Shin Saito / サイトウ シン |
| 第3著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2016-12-09 10:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2016-38 |
| 巻番号（vol） | vol.116 |
| 号番号（no） | no.348 |
| ページ範囲 | pp.51-56 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2016-12-01 (MR) |
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