お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2017-10-04 14:15
金属インターカレートした2層グラフェンの電気特性と高圧印加による効果
倉金夏己荒木伊久磨鈴木雅登永田知子岩田展幸高橋博樹山本 寛日大CPM2017-60 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2017-60
抄録 (和) Cu箔上にCVD法を用いて単層グラフェンを作製した。Cu箔は、Fe(NO)3溶液によってエッチングした。単層グラフェンは、SiO2/Si基板上に転写し、単層グラフェン(下層部)//SiO2/Siを作製した。単層グラフェン(上層部)をFe(NO)3または、CaCl2溶液に浸漬させ、単層グラフェン(下層部)//SiO2/Siで掬い上げ転写し単層グラフェン(上層部)/金属原子/単層グラフェン(下層部)//SiO2/Siを作製した。すべての試料で2層グラフェンのG/2D比0.4より高い値となっていた。Fe(NO)3溶液の濃度を0.06 mol/Lで作製した試料の室温でのシート抵抗は、500 kΩ/sq.となり、抵抗温度依存性は、半導体的性質を示した。Fe(NO)3溶液の濃度を0.12 mol/Lで作製した試料の室温でのシート抵抗は、1300Ω/sq.となり、抵抗温度依存性は、合金的性質を示した。CaCl2溶液の濃度を0.12mol/Lで作製した試料の室温でのシート抵抗は、6430Ω/sq.となり、抵抗温度依存性は、合金的性質を示した。 
(英) Single-layered graphene sheets were synthesized on Cu foils by a chemical vapor deposition method. The graphene/Cu foil was dipped in Fe(NO)3 solution to etch the Cu foil and Fe or Ca atoms were left on the graphene using Fe(NO)3 or CaCl2 solutions. Metal intercalated bilayer graphenes were fabricated by accumulating another graphene on the metal adsorbed etched graphene. The G/2D ratio of all samples was higher than 0.4. The metal-intercalated bilayer graphene fabricated using 0.06mol/L and 0.12mol/L of Fe(NO)3 or CaCl2 solutions for adsorption of metal atom. The sheet resistance at room temperature of the sample fabricated using 0.06 mol/L of Fe (NO)3 solution was 500 kΩ/sq. and temperature dependence of a sheet resistance was semiconducting property. The sheet resistance at room temperature of the sample fabricated using 0.12 mol/L of Fe (NO)3 solution was 1300 Ω / sq. and temperature dependence of a sheet resistance was alloy property. The sheet resistance at room temperature of the sample fabricated using 0.12 mol/L of CaCl2 solution was 6430Ω/sq. and temperature dependence of a sheet resistance was alloy property.
キーワード (和) 化学気相成長法 / グラフェン / 積層 / 2層グラフェン / インターカレート / / /  
(英) Chemical Vapor Deposition / Graphene / Deposition / Bi-layers Graphene / Intercalation / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 224, CPM2017-60, pp. 5-10, 2017年10月.
資料番号 CPM2017-60 
発行日 2017-09-27 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2017-60 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2017-60

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2017-10-04 - 2017-10-04 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 光記録技術・電子材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2017-10-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 金属インターカレートした2層グラフェンの電気特性と高圧印加による効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication and Electric Properties of Bilayer Graphene with Intercalation of Metal Layer 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 化学気相成長法 / Chemical Vapor Deposition  
キーワード(2)(和/英) グラフェン / Graphene  
キーワード(3)(和/英) 積層 / Deposition  
キーワード(4)(和/英) 2層グラフェン / Bi-layers Graphene  
キーワード(5)(和/英) インターカレート / Intercalation  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 倉金 夏己 / Natsuki Kuragane / クラガネ ナツキ
第1著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 荒木 伊久磨 / Ikuma Araki / アラキ イクマ
第2著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 雅登 / Masumi Suzuki / スズキ マスミ
第3著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 永田 知子 / Tomoko Nagata / ナガタ トモコ
第4著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata / イワタ ノブユキ
第5著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 博樹 / Hiroki Takahasi / タカハシ ヒロキ
第6著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 寛 / Hirosi Yamamoto / ヒロシ ヤマモト
第7著者 所属(和/英) 日本大学 (略称: 日大)
Nihon University (略称: Nihon Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2017-10-04 14:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2017-60 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.224 
ページ範囲 pp.5-10 
ページ数
発行日 2017-09-27 (CPM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会