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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2017-12-01 09:40 CMPプロセスにおける高圧マイクロジェット（HPMJ）のハイブリッド効果 ○塚本敬一・土肥俊郎（九大）・王 成武（浙江師範大）・瀬下 清（九大）・宮地計二・加藤幹大（旭サナック）・宮下忠一（不二越機械工業）・大坪正徳・松永洋子（九大）  OME2017-36 |
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| 抄録 | （和） | 半導体ウエハのCMPプロセスにおいて，パッドの目詰まりは避けられない．従来からダイヤモンド電着コンディショナによって，目詰まりを起こしたパッド表層を削り取っているのが実情である，一方近年では超純水のHPMJ(High Pressure Micro Jet)によって非破壊でパッドのコンディショニングを行う方法が考案されている． 本発表では，スラリーをHPMJ装置にて供給することで，スラリー供給とin-situでの非破壊パッドコンディショニングを可能とするハイブリット方式を考案した．SiウエハのCMPプロセスにこのHPMJハイブリッド方式を導入して加工特性を把握したところ，従来の方式と比べ長期間にわたり極めて安定した加工レートと表面品位を確保できることを実証した．本方式はSiのみならずSiC,GaNなどのウエハの加工プロセスにも適用可能である． |
| （英） | Clogging of the polishing pad is inevitable during CMP process for semiconductor wafer. Conventional reconditioning method to remove the clogging of the pad is to grind off the pad surface using diamond electroplated conditioner, which can damage and thin the pad surface and shorten the life. Recently HPMJ (High Pressure Micro Jet) is adopted to the pad conditioning process, which can extremely reduce the pad damage. In this paper, novel polishing slurry feeding system using HPMJ apparatus is presented, implementing hybrid effect. New method feed the slurry and condition the pad simultaneously (i.e. in-situ conditioning). Long time polishing was executed for Si wafer and the result revealed this method show the stable high material removal rate (MRR) and low surface roughness for long duration of time compared to the conventional slurry dropping method. This HPMJ hybrid system can apply to the polishing process for hard-and-brittle semiconductor materials with wide bandgap such as SiC or GaN. | |
| キーワード | （和） | 半導体 / CMP / HPMJ / パッドコンディショニング / in-situコンディショニング / スラリー供給 / Siウエハ / SiC |
| （英） | semiconductor / CMP / HPMJ / pad conditioning / in-situ conditioning / slurry supply / Si wafer / SiC | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 117, no. 334, OME2017-36, pp. 7-12, 2017年12月. | |
| 資料番号 | OME2017-36 | |
| 発行日 | 2017-11-24 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2017-36 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2017-12-01 - 2017-12-01 |
| 開催地（和） | サンメッセ鳥栖 |
| 開催地（英） | Sun Messe Tosu |
| テーマ（和） | 有機エレクトロニクス、バイオテクノロジー、新規機能性材料、薄膜、機能デバイス、材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Organic molecular devices, biotechnology, thin film, novel material, evaluation method, etc |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2017-12-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | CMPプロセスにおける高圧マイクロジェット（HPMJ）のハイブリッド効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Pad-Conditioning/Slurry-Supply Hybrid Effect of High-Pressure-Micro-Jet (HPMJ) Method During CMP Process |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 半導体 / semiconductor |
| キーワード(2)（和/英） | CMP / CMP |
| キーワード(3)（和/英） | HPMJ / HPMJ |
| キーワード(4)（和/英） | パッドコンディショニング / pad conditioning |
| キーワード(5)（和/英） | in-situコンディショニング / in-situ conditioning |
| キーワード(6)（和/英） | スラリー供給 / slurry supply |
| キーワード(7)（和/英） | Siウエハ / Si wafer |
| キーワード(8)（和/英） | SiC / SiC |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 塚本 敬一 / Keiichi Tsukamoto / ツカモト ケイイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 九州大学 グローバルイノベーションセンター (略称： 九大) Global Innovation Center, Kyushu University (略称： Kyushu Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 土肥 俊郎 / Toshiro Doi / ドイ トシロ |
| 第2著者 所属（和/英） | 九州大学 グローバルイノベーションセンター (略称： 九大) Global Innovation Center, Kyushu University (略称： Kyushu Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 王 成武 / Chengwu Wang / ワン チェング |
| 第3著者 所属（和/英） | 浙江師範大学工学院 (略称： 浙江師範大) Zhejiang Normal University (略称： Zhejiang Normal Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 瀬下 清 / Kiyoshi Seshimo / セシモ キヨシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 九州大学 グローバルイノベーションセンター (略称： 九大) Global Innovation Center, Kyushu University (略称： Kyushu Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮地 計二 / Keiji Miyachi / ミヤチ ケイジ |
| 第5著者 所属（和/英） | 旭サナック株式会社 (略称： 旭サナック) Asahi Sunac Corporation (略称： Asahi Sunac Co.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 加藤 幹大 / Mikihiro Kato / カトウ ミキヒロ |
| 第6著者 所属（和/英） | 旭サナック株式会社 (略称： 旭サナック) Asahi Sunac Corporation (略称： Asahi Sunac Co.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮下 忠一 / Tadakazu Miyashita / ミヤシタ タダカズ |
| 第7著者 所属（和/英） | 不二越機械工業株式会社 (略称： 不二越機械工業) Fujikoshi Machinery Corporation (略称： Fujikoshi Machinery Co.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大坪 正徳 / Masanori Ohtsubo / オオツボ マサノリ |
| 第8著者 所属（和/英） | 九州大学 グローバルイノベーションセンター (略称： 九大) Global Innovation Center, Kyushu University (略称： Kyushu Univ.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松永 洋子 / Yoko Matsunaga / マツナガ ヨウコ |
| 第9著者 所属（和/英） | 九州大学 グローバルイノベーションセンター (略称： 九大) Global Innovation Center, Kyushu University (略称： Kyushu Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2017-12-01 09:40:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2017-36 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | no.334 |
| ページ範囲 | pp.7-12 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2017-11-24 (OME) |
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