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講演抄録/キーワード
講演名 2018-01-30 15:00
[招待講演]STDP synapse with outstanding stability based on a novel insulator-to-metal transition FET
Pablo StoliarnanoGUNE)・Alejandro SchulmanAi KitohAkihito SawaIsao H. InoueAISTSDM2017-95 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2017-95
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) We have developed an ultra-stable spike-timing-dependent plasticity (STDP) synapse based on a unique field-effect transistor (FET) that presents a gate-controlled insulator-to-2D-metal transition (IMT). Most of the present sin- gle-device STDP synapses depend on stochastic phenomena (e.g., filament formation) and the instability on spike pulses is inevitable. In contrast, our STDP synapse shows a distinguished stability with a large dynamic range and with very low power consumption. Hand-written digit recognition in a simulated spiking neural network (SNN) for our STDP synapse was also demonstrated.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) STDP / artificial synapse / insulator-to-2D metal transition / SrTiO3 / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 117, no. 427, SDM2017-95, pp. 17-20, 2018年1月.
資料番号 SDM2017-95 
発行日 2018-01-23 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2017-95 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2017-95

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2018-01-30 - 2018-01-30 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2018-01-SDM 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) STDP synapse with outstanding stability based on a novel insulator-to-metal transition FET 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / STDP  
キーワード(2)(和/英) / artificial synapse  
キーワード(3)(和/英) / insulator-to-2D metal transition  
キーワード(4)(和/英) / SrTiO3  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) ストリア パブロ / Pablo Stoliar / ストリア パブロ
第1著者 所属(和/英) CIC nanoGUNE (略称: nanoGUNE)
CIC nanoGUNE (略称: nanoGUNE)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) シュルマン アレハンドロ / Alejandro Schulman / シュルマン アレハンドロ
第2著者 所属(和/英) 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鬼頭 愛 / Ai Kitoh / キトウ アイ
第3著者 所属(和/英) 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 澤 彰仁 / Akihito Sawa / サワ アキヒト
第4著者 所属(和/英) 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 井上 公 / Isao H. Inoue / イノウエ イサオ
第5著者 所属(和/英) 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-01-30 15:00:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2017-95 
巻番号(vol) vol.117 
号番号(no) no.427 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数
発行日 2018-01-23 (SDM) 


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